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常规沉积条件下的组合合成

脉冲激光沉积系统特点及优势:

可根据客户需求定制产品,灵活性高,并提供*的技术支持;靶台可以安装6个靶位,靶材更换灵活;样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用;进样室可以存储多个靶和样品;交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短,*;

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脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积,脉冲激光沉积设备公司,是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的*之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有*功能的纳米结构和纳米颗粒。

另外,脉冲激光沉积设备厂家,PLD 是一种“数字”技术,在纳米尺度上进行工艺控制(A°/pulse)。

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