磁控溅射仪公司-沈阳鹏程(在线咨询)-磁控溅射仪

线列式磁控生产线

沈阳鹏程真空技术有限责任公司*生产、销售磁控溅射产品，我们为您分析该产品的以下信息。

采用*的in-line产线结构，Twin-Mag孪生阴*磁控溅射技术，并配以全自动控制系统、*的真空系统，可在玻璃衬底上镀制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜，并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构，适合大规模光学、电学薄膜的生产，做到一机多用具有高能效、高可靠性、低成本的优势。

本产品可广泛应用于触摸屏ITO镀膜、LCD显示屏ITO镀膜、薄膜太阳能电池背电*及AZO镀膜、彩色滤光片镀膜、电磁屏蔽玻璃镀膜、AR镀膜、装饰镀膜等产业领域。

溅射镀膜

溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常，利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴*靶由镀膜材料制成，基片作为阳*，真空室中通入0.1-10Pa的气或其它惰性气体，在阴*（靶）1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的离子轰击靶表面，使得靶原子溅出并沉积在基片上，形成薄膜。溅射方法很多，主要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。

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磁控溅射的种类介绍

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，磁控溅射仪公司，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而*电子撞击气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

靶源分平衡式和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴*按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态磁控阴*和非平衡态磁控阴*。平衡态磁控阴*内外磁钢的磁通量大致相等，两*磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加了碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材利用率相对较高。

但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面，磁控溅射仪哪家好，基片区域所受离子轰击较小。非平衡磁控溅射技术，即让磁控阴*外磁*磁通大于内磁*，两*磁力线在靶面不完全闭合，部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域，从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片，增加基片磁控溅射区域的等离子体密度和气体电离率。不管平衡还是非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定了一般靶材利用率小于30%。为*靶材利用率，磁控溅射仪价格，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶，磁控溅射仪，如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。

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