磁控溅射仪价格-磁控溅射仪-沈阳鹏程真空技术公司(查看)
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- 名称沈阳鹏程真空技术有限责任公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 董顺
-
价格
面议
点此议价
- 采购量 不限制
- 发布日期 2021-07-03 10:12 至 长期有效
磁控溅射仪价格-磁控溅射仪-沈阳鹏程真空技术公司(查看)产品详情
磁控溅射镀膜机导致不均匀因素哪些?
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原理上讲,两点:气场和磁场
磁控溅射在0.4Pa的气压情况下离子撞击靶材,溅射出粒子沉积到基材上,整体靶材的电压几乎一致,磁控溅射仪哪家好,不影响溅射速率。
0.4Pa的气场情况是溅射速率较高的情况,气场变化,压强变大和变小都会影响溅射速率。
磁场大,束缚的自由电子增多,溅射速率*,磁场小,束缚的自由电子就少,溅射速率降低。
稳定住气场和磁场,溅射速率也将随之稳定。
在实际情况下,气场稳定,需要设计布气系统,将布气系统分级布置,保障镀膜机腔体内不同位置的进气量相同,同时,布气系统、靶材、基材等要远离镀膜机的抽气口。需要稳定磁场,用高斯计测量靶材表面磁场强度,由于磁场线本身是闭合曲线,靶材磁场回路两端磁场强度自然比中间位置强,可以选择用弱磁铁,同时,基材要避开无法调整的磁场变化较大的部分。
另外,在设备结构设计方面,磁控溅射过程中,需要基材与靶材保持同轴,磁控溅射仪价格,如果旋转、直线运行的话,也要同轴旋转、直线运行。
溅射镀膜的特点
溅射就是从靶表面撞击出原子物质的过程。溅射产生的原子或分子沉积到基体(零件)表面的过程就是溅射镀膜。
溅射镀膜与真空镀膜相比,有如下特点:
1.任何物质都可以溅射,磁控溅射仪报价, 尤其是高熔点金属、低蒸气压元素和化合物;
2.溅射薄膜与衬底的附着性好;
3.溅射镀膜的密度高,孔少,膜层纯度高;
4.膜层厚度可控性和重复性好。
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磁控方箱生产线介绍
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。
主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。
技术指标: *限真空度6.7×10-5Pa,系统漏率:1×10-7PaL/S; 恢复真空时间:40分钟可达6.6×10 Pa(短时间暴露 大气并充干燥氮气后开始抽气)
镀膜方式:磁控靶为直靶,向下溅射成膜; 样品基片: 负偏压 -200V
样品转盘:在基片传输线上连续可调可控,在真空下可轮流任意靶位互换工作。样品转盘由伺服电机驱动,计算机控制其水平传递;
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统,计算机控制系统的功能:对位移和样品公转速度随时间的变化做实时采集,对位移误差进行计算,以曲线和数值显示。样品公转速度对位移曲线可在线性和对数标度两种显示之间切换,可实现换位镀膜。
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