膜厚,非接触膜厚,捷扬光电(多图)

捷扬光电 JFD-2000膜厚检测仪 原理介绍

在现代科学技术中，薄膜已有广泛的应用。薄膜厚度是薄膜性能参数的重要指标，薄膜厚度是否均匀一致是检测薄膜各项性能的基础。目前，两类主要的薄膜测量是基于光学和探针的方法。探针法测量厚度及粗糙度是通过监测精细探针划过薄膜表面时的偏移。探针法在测量速度和精度上受限，并且测量厚度时需要在薄膜里作一个“台阶”。探针法通常是测量不透明薄膜（例如金属）的较好方法。光学法是通过测量光与薄膜如何相互作用来检测薄膜的特性。光学法可以测量薄膜的厚度、粗糙度及光学参量。光学参量是用来描述光如何通过一种物质进行传播和反射的。一旦得知光学参量，就可以同其它重要参量（例如成分及能带）联系起来。两类常用的光学测量法是反射光谱法及椭圆偏光法。反射光谱法是让光正（垂直）入射到样品表面，测量被薄膜表面反射回来的一定波长范围的光。椭圆偏光法测量的是非垂直入射光的反射光及光的两种不同偏振态。一般而言，反射光谱法比椭圆偏光法更简单和经济，但它只限于测量较不复杂的结构。 捷扬光电的JFD-2000膜厚测试仪采用的是反射光谱法的原理，可测量薄膜的厚度及光学常数。反射光谱包含了样品的反射率，膜层厚度，膜层和基底的折射率与消光系数的信息。光学参量（n和k）描述了光通过薄膜如何进行传播。n是折射率，描述了光在材料中能传播多快，同时它表示入射角i与折射角r的关系。k是消光系数，决定材料能吸收多少光。n与k是随着波长的变化而变化的。这种依赖关系被称为色散。不同波长的光波在穿透被测膜层时会产生不同的相位差，由被测膜层的厚度与n，k值决定各个波长的光所产生的相位差，相位差为波长整数倍时，产生建设性叠加，此时反射率大；相位差为半波长时，出现*性叠加，反射率低；整数倍与半波长之间的叠加，反射率介于大与小反射之间，这样就形成了干涉图形。

捷扬光电 JFD-2000 非接触膜厚检测仪 应用领域

JFD-2000 非接触膜厚检测仪 ，其可测量薄膜厚度在1nm到1mm之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达0.7埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(****&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applicati*)等。

捷扬光电 JFD-2000 膜厚检测仪参数

厚度范围：0.5-100 μm

光谱范围：200-1100 nm

精度：0.05 μm 或3%

分辨率：0.001μm

重复性：0.02 μm

重现性：0.05 μm

厚度单位：μm

重量单位：gsm

主控制箱尺寸：300x223x130 mm

主控制箱重量：6 kg

罐体检测箱尺寸：357x458x797 mm

罐体检测箱重量：35 kg

片状支架尺寸：φ200x214 mm

片状支架重量：1.5 kg

电源：220V/50Hz

数据输出：软件保存到数据库或RS232

输出样品尺寸：片状，直径大于10mm

供气：无