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常规沉积条件下的组合合成

脉冲激光沉积系统特点及优势:

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脉冲激光沉积原理

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脉冲激光沉积原理:在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击,利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来,再沉积在不同的衬底上,从而形成薄膜。



脉冲激光沉积的原理

脉冲激光沉积原理:在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击,利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来,再沉积在不同的衬底上,从而形成薄膜。

脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物,激光脉冲沉积设备公司,氮化物,激光脉冲沉积设备,硫化物薄膜,激光脉冲沉积设备哪家好,金属薄膜,磁性材料等。

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