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电子束蒸发源蒸镀法

将蒸发材料放入水冷铜坩锅中,直接利用电子束加热,使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜,是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点,特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。








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光学薄膜有改变电磁波的路径的特性■光学薄膜很薄时就会产生干涉,车灯反光灯配光,当光学薄膜很厚时就产生不了干涉当我们把很薄的膜组合起来就有很多新的特性产生。

参数:

E值:辐射率。辐射率是指透过玻璃的远红外线与入射远红外线之比。辐射率越小,通过膜层反射回去的热量越多,隔热效果越好。(E=0.0129R-6.75R2)



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真空镀膜之磁控溅射镀膜 :磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向, 束缚和延长电子的运动轨迹, 从而提高了电子对工作气体的电离几率和有效地利用了电子的能量。因此在形成高密度等离子体的异常辉光放电中正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效,同时受正交电磁场的束缚的电子只能在其能量将要耗尽时才能沉积在基片上。这就是磁控溅射具有 “低温”、“高速”两大特点的机理。


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