阜阳真空不锈钢镀钛选哪家*

可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能 地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法增厚涂层，后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。

大约在八十年代中后期，出现了热阴*电子枪蒸发离子镀、热阴*弧磁控等离子镀膜机，应用效果很好，使TiN 涂层刀具很快得到普及性应用。

其缺点是：

1）工艺比传统单色PVD的更为复杂，流程更为繁杂，真空不锈钢镀钛选哪家，生产难度高；

2）生产良率低，大约为65～70%（传统单色PVD的生产良率一般为85～90%；

3）价格会比传统单色PVD的高50～60%；

4）因工艺和流程的影响，双色PVD生产限制较多，受产品结构的影响较大，而传统单色PVD则几乎不受限制

现代涂层设备(均匀加热技术、温度测量技术、非平衡磁控溅 射技术、辅助阳*技术、中频电源、脉冲技术) 现代涂层设备主要由真空室、真空获得部分、真空测量部分、电源供给部分、工艺气体输入系统、机械传动部分、加热及测温部件、离子蒸发或溅射源、水冷系统等部分组成。

在靶材和衬底之间加上一个直流高压，*板间的气体（一般为Ar2）电离，高速带电离子轰击靶材表面的溅射镀膜技术。要保持自持放电，在两*板间距为数厘米的正常溅射间距下，放电气压一般高达10帕，这对溅射效率和薄膜质量都是不利的。因此，直流溅射多采用非自持放电，也就是加入热电子发射*和辅助阳*的四*溅射，可使溅射在10-1～10-2帕的低气压下进行。


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