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感应加热式蒸发镀膜

利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。

优点蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右 蒸发源的温度稳定，不易产生飞溅现象坩埚温度较低，装饰镀钛加工电话，坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂

在真空中，高能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够的能量而逸出表面，到达衬底凝结成膜的技术。

与真发镀膜相比，溅射镀膜适用于所有（包括高熔点）材料，具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。

但其工作气压低于蒸发镀膜，因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。

离子镀

在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。可将离子发生源与工作室分离，克服了溅射镀膜为了持续放弧而必须保持较高的工作气压的缺陷，高能离子对衬底和沉积薄膜表面的轰击保证了薄膜的附着力和质量，是一种结合了蒸发镀膜和溅射镀膜优势的PVD技术。

根据离化方式的不同，金属镀钛加工电话，常用的离子源有考夫曼离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴*离子源、电子回旋离子源等。

镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，枣庄镀钛加工电话，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，处理镀钛加工电话，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。