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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :占空比:占空比是指脉冲偏压的通断时间比,占空比越大,同一个周期时间内偏压输出时间越长,陈村LED灯罩镀膜,*占空比可以提高离子轰击的能量,有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度,但会提高工件的温升;减小占空比有利于*打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。







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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:

基体温度:镀膜时基体温度直接影响膜层的结构、致密性和附着力,温度可用T/Tm值来确定,如;靶材为钛,其熔点为1670℃,基体温度应该选择TI/TM=0.15-0.25即 250-417℃才能得到理想的晶粒*。考虑到沉积粒子受负偏压作用加速轰击工件还会引起温升,基体可选在250-300℃


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离子镀是真空镀膜工艺”的一项新发展。普通真空镀膜(亦称真空蒸镀)时,工件夹在真空罩内,当高温蒸发源通电加热后,LED灯罩镀膜供应,促使待镀材料——蒸发料熔化蒸发。由于温,蒸发料粒子获得一定动能,则沿着视线方向徐徐上升,后附着于工件表面上堆积膜。用这种工艺形成的镀层,与零件表面既无牢固的化学结合,有无扩散连接,附着能很差,有时就像桌面上落的灰尘一样,用手一摸也会擦掉。



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