塑料反光杯镀膜供应-佛山锦城镀膜-乐平塑料反光杯镀膜

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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 ：

偏压：偏压施加于工件上，在辉光清洗时工件（阴*）与炉体之间产生辉光放电，部分气被电子离化产生离子，离子（带正电）在负偏压作用下受工件吸引轰击清洗工件表面，偏压越大，对工件的轰击净化越干净，但同时工件本身的温升也越大，特别是尖角位棱角位置；在离子轰击中用于加速离子，提高离子轰击工件表面的能量，去除表面氧化层和吸附物，达到提高膜层结合力的作用。

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真空镀膜之多弧离子镀 ：

电弧电流一般为几安至几百安，工作电压为10-25V，这时阴*表面的全部电流集中在一个或多个很小的部位 ， 形成明亮的阴*弧斑 ， 阴*弧斑的直径为0.01-100um， 并以高达100m/s的速度在阴*靶表面随机运动 ，乐平塑料反光杯镀膜， 也可以利用磁场控制阴*弧斑的运动。在阴*弧斑的前方是高密度的金属等离子体， 由于电子向阳*快速移动而使阴*斑点前方出现离子堆积即形成正空间电荷 ， 从而在阴*附近形成*强的电场， 导致场电子发射以维持弧光放电。

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真空镀膜之多弧离子镀 ：该装置的优点是阴*电弧源既是蒸发源和离化源 ，又是加热源和轰击源，塑料反光杯镀膜生产厂家，不用熔池，弧源可任意方位，多源布置。离化率高，一般可达60%-80%蒸发沉积速率快， 入射粒子能量高，沉积膜的质量和附着性能好。可蒸发各种导电材料，金属或合金， 成份不受限制。能进行反应镀膜，缺点是易于产生液滴，*不致密。