无****抛光表面处理方案-金谷新材料-无****抛光表面处理

复合阳****氧化复合阳****氧化法是一种新型的阳****氧化技术。日本的吉村长藏等[4]往铝阳****氧化液中添加一些难溶粉体，发现氧化膜的厚度，硬度均有很大变化。曾凌三、梁东[5]也做了类似的实验，结果发现这些难溶粉体表面带电状态和膜层表面之间发生电化学反应，粉体沉积在膜层中，同时也有一部分粉体在机械搅拌作用下进入膜孔内，氧化膜的性能改变取决于粉体的性质和悬浮浓度。

阳****氧化的种类

阳****氧化按电流形式分为：

直流电阳****氧化，

交流电阳****氧化，脉冲电流阳****氧

化。按电解液分有：*、草酸、铬酸、

?混合酸和以磺基有机酸为主溶液的自

然着色阳****氧化。按膜层性子分有：普通膜、硬质膜（厚膜）、瓷质膜、光亮修

饰层、半导体作用的阻挡层等阳****氧化。铝及铝

?合金常用阳****氧化方法和工艺

条件见表

-5

。其中以直流电*阳****氧化法的应用****为普遍。

4

、阳****氧化膜结构、性质

阳****氧化膜由两层组成，无****抛光表面处理工艺，多孔的厚的外层是在具有介电性质的致密的内层上上成

长起来的，后者称为阻挡层（也称活性层）

。用电子显

?微镜观察研究，膜层的纵

横面几乎全都呈现与金属表面垂直的管状孔，它们贯穿膜外层直至氧化膜与金属

界面的阻挡层。以各孔隙为主轴周围是致密的氧化铝构成一

?个蜂窝六棱体，无****抛光表面处理方式，称

为晶胞，

整个膜层是又无数个这样的晶胞组成。阻挡层是又无水的氧化铝所组成，

薄而致密，具有高的硬度和阻止电流通过的作用。阻挡层厚约

0.03-0.05

μ

m

，无****抛光表面处理，?

为总膜后的

0.5%-2.0%。氧化膜多孔的外层主要是又非晶型的氧化铝及小量的

水合氧化铝所组成，此外还含有电解液的阳离子。

?当电解液为*时，无****抛光表面处理方案，膜层中

*盐含量在正常情况下为

13%-17%

。氧化膜的大部分优良特性都是由多孔外

层的厚度及孔隙率所觉决定的，它们都与阳****氧化条

件密切相关。

*jun性氧化铝膜：*jun性氧化铝膜是将*jun成分浸透到膜的孔中并在膜孔中析出，从而使之具有*jun性作用。人们早就知道，银、铜、锌等金属离子具有*jun作用，通过用含有这些金属离子的热水进行封孔处理就能具有*jun性。****近，备受关注的*jun物质是TiO2。TiO2 通过紫外线的作用，在表面生成活性氧类，而此活性氧显示出*jun作用。除了*jun作用之外，它还有脱臭、防尘、分解室内挥发性有机化合物（VOC）的作用等，所以又开发了通过在铝建材表涂覆涂料，而获得具有防污性的产品。目前，主要是涂覆含TiO2 涂料的方法，也正在开发在阳****氧化膜孔中析出TiO2 的方法。4，还可以进行一些电化学测试分析，比如****化曲线测测氧化膜的耐蚀性，阻*测测氧化膜的电阻。