晟鼎精密(图)-等离子刻蚀机国产-等离子

对塑料进行等离子清洗的同时还伴随着对塑料进行活化处理。如果塑料的确只需要清洗而不需要进行活化处理，等离子刻蚀机国产，则只需要尽量降低工艺参数，直至达到所需的效果。同时，还必须考虑到，仅仅清洗工件对于后续工艺流程而言是否足够。工艺气体通常是工业氧气，等离子，但是环境空气往往已经足够。可反复进行等离子体处理，而且不会产生任何*废气。该原理和金属的等离子清洗是一致的。

应如何存放经过等离子处理的零部件？

在经过等离子处理之后，建议 不要将零部件存放于露天环境中，因为其会吸附灰尘、有机污染物和湿气。用收缩膜包装的零部件较之于露天存放的零部件，明显具有更高的保质期。在与客户密切协商后，对由我们进行了表面处理的零部件进行包装，等离子清洗机结构 ，例如，经过测试认证的无硅 PE 包装袋、防静电包装 ，或者客户提供给我们的定制包装材料。

为什么不允许触摸经过处理的零部件？

等离子体会去除有机污染物，但是无法去除无机污染物。例如，*的汗水中含有盐份（无机污染物），故此仅可以用手套接触零部件。

通过接触角测量等离子清洗效果？

接触角是指三相交点处所观察到的静止液滴在固体上的投影与固体表面上液滴形状的相切夹角。按照物理定义，表面的接触角小于 90° 的为亲水性（润湿性）表面，如果 接触角大于 90° 则为疏水性（非润湿性）表面。通过等离子处理 ，接触角会发生变化（变大、变小）。通过适当的等离子工艺或者以等离子工艺进行适当的涂层处理， 亲水性表面会转变为 疏水性表面（进行亲水性涂层处理，则得到相反的效果）。

用于故障分析或MEM和LED器件制造的*等离子体蚀刻，等离子蚀刻系统设计用于****的蚀刻应用，例如：去除用于故障分析，去封装和介电材料去除的中间膜，蚀刻氧化物，氮化物，硅，金属，材料用于MEMS，LED或IC器件制造，环氧树脂去除; 光致*蚀剂剥离和去除。等离子体蚀刻机可以适应各种工艺气体，镜头等离子清洗，包括：Ar，O2，H2 /形成气体，He，CF4和SF6。标准是2个电子质量流量控制器，用于气体控制，另有2个可选项（共4个）。