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电子束镀膜属于蒸镀还是溅射?

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。

电子束蒸镀机


1.蒸发镀膜和溅射镀以及离子镀都是物理的气相沉积(PVD)的工艺方法。

2.蒸发镀主要包括:电阻加热蒸发、感应加热蒸发、电子束蒸发、激光加热蒸发、离子束蒸镀等。

3.您所说的E型枪镀膜和直型电子枪镀膜都是属于热蒸发镀膜的范畴。

4.S枪溅射实际就是锥形磁控溅射靶,阴****靶材为环状锥形,安装在水冷座上。环状磁钢套在靶材外边形成曲线磁场,其平行靶面的磁场分量和垂直于靶面的电场分量形成正交电磁场。电子束被约束在靶面附近运动,电子流密度很大,在靶面附近产生很强的非弹性碰撞,电离几率很大,形成很强的等离子体。


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电子束加热蒸发源

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,电子束蒸镀机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。

电子束蒸镀机

电子束加热蒸发源

电子束的蒸发源主要是由电子枪和坩埚两部分组成,必要的时候可能会附带一套可以给镀膜机提供原材料的机械设备。在大多数的情况中,在镀膜机中会将产生以及控制电子束的控制装置和坩埚的设计组成一个整体。以下是电子束加热蒸发源的几种表现的结构形式;

①采用直线阴****和静电聚焦方式加热的蒸发器。

②采用环状阴****和静电聚焦方式加热的蒸发器。

③采用轴向枪和静电远聚焦方式加热的蒸发器。

④采用轴向枪、磁聚焦和磁偏转90度方式加热的蒸发器。

⑤E型电子枪蒸发器,e型电子束蒸发源所发射的电子轨迹与"e"字相似,故简称e型枪。

目前这种形式的蒸发源在真空蒸镀膜工艺中应用****为广泛。


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电子束蒸发与磁控溅射镀膜的性能分析研究

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,电子束蒸镀机哪家好,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,电子束蒸镀机多少钱,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。

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电子束蒸发与磁控溅射镀膜的性能分析研究

随着科学技术的不断发展,半导体器件的种类不断增多。原始点接触晶体管、合金晶体管、合金扩散晶体管、台面晶体管、硅平面晶体管、TTL集成电路和N沟硅栅平面MOS集成电路等,其制造工艺及工艺之间的各道工序也有所差别。在硅平面晶体管工艺过程中,电****材料的制备技术是一项关键工艺,典型的制备技术主要有两类:一类是电子束蒸发镀膜技术,另一类是磁控溅射镀膜方法。长期以来,在生产实践中由于电了束蒸发与磁控溅射这两种方法制备晶体管微电****各具优势,而且各自采用的设备和工艺不同,因而其产品质量孰优孰次一直存在争论。本文就这一问题展开研究,详细分析了常用电****材料Al通过这两种方法制备成薄膜电****的膜厚控制、附着力、致密性、电导率和折射率等重要性能指标,测试结果分析表明磁控溅射铝膜的综合性能优于电子束蒸发。


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