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磁控溅射镀膜机的工作原理

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控设备

磁控溅射的工作原理

是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴****靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，磁控设备厂商，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向*移，简称E×B*移，其运动轨迹近似于磁控溅射一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，磁控设备报价，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下****终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

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磁控溅射镀膜设备技术的特点

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，磁控设备生产厂，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控设备

磁控溅射镀膜设备技术的特点

(1) 离子轰击渗扩速度快 由于采用等离子溅射，为渗剂原子和离子的吸附和渗人创造了高度活化的表面，增加了晶体中缺陷的密度，比传统的气体渗扩技术速度明显****。在同样工艺条件下，渗层深度在0.05二 之内，比气体渗扩****1倍。在较高温度下，1h即可达lmm厚。

(2)对工件表面改性效果显著，表面质量高，真空加热易消除高温冶炼时溶解的气体，并可通过渗人金属改变基体的*和结构，使*性、耐腐蚀性、硬度和冲击韧性等诸多性能得到****。并且由于清洗作用，使金属表面粗糙度降低，去除金属表面的杂质和污物，****了金属的表面质量。

(3) 工艺适应性强，便于处理形式复杂的工件。传统的离子注人技术的致命弱点是注人过程是一个视线过程，只有暴露在离子枪口下的工件表面才能被注人，对于工件中需要表面改性的内表面或沟槽表面等，离子束则难以达到，并且一次只能注人一个工件，注人效率低，设备复杂昂贵

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磁控溅射镀膜机原理

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

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由此可见，溅射过程即为入射离子通过一系列碰撞进行能量交换的过程，入射离子转移到逸出的溅射原子上的能量大约只有原来能量的1%，磁控设备，大部分能量则通过级联碰撞而消耗在靶的表面层中，并转化为晶格的振动。溅射原子大多数来自靶表面零点几纳米的浅表层，可以认为靶材溅射时原子是从表面开始剥离的。如果轰击离子的能量不足，则只能使靶材表面的原子发生振动而不产生溅射。如果轰击离子能量很高时，溅射的原子数与轰击离子数之比值将减小，这是因为轰击离子能量过高而发生离子注入现象的缘故。

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