电子束蒸发镀膜系统生产厂家-电子束蒸发镀膜系统-北京泰科诺

电子束蒸发使用安全规范?

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸发镀膜系统

电子束蒸发使用安全规范?

1、?实验前确认事项? A、开启液氮；? B、冷却机水箱是否具有足够的水。?2、?装样? A、?拧开样品台上的四个螺母，断开冷却水管，取出样品台；?B、?使用乙醇擦拭样品台与腔体的接口；?C、?装样；? D、?把样品台放入腔体，拧紧样品台的螺母，接上冷却水管。?3、?开机，抽真空? A、打开总电源，开启冷却水机；? B、打开电脑操作软件，启动分子泵以及机械泵。?4、?除气? A、?待腔体内气压低于10-3pa（时间允许情况下真空度尽量 低）；? B、?打开面板电源；?C、?HV降至0V；? D、?CoM设置为Filament?Current;?E、?Pocket?1设置为Enable；? F、?逐渐****Filament?Current至1A，注意不要使真空度降低 过快；? G、?将Filament?Current降至0，关闭Pocket?1。? 5、?镀膜? A、?HV升高至2?kV；? B、?CoM设置为HV?power；? C、?逐渐****其中HV?power（视工艺参数而定），同时注意不要使 真空度降低过快；? D、?打开蒸发源挡板，稳定5分钟；? E、?打开样品台挡板，电子束蒸发镀膜系统生产，正式镀膜，记录镀膜开始时间；?F、?关挡板，记录结束镀膜时间，降低HV?power至0?w，然 后降低HV至0?V（注意降低的顺序不可颠倒）；?G、?冷却30分钟。?6、?取样? A、?关闭分子泵以及机械泵，关闭冷却水机；? B、?待分子泵转速低于2000rpm，若电磁阀为自动开启需手动 开启，拧开样品台螺母，通入氮气至样品台可取出（勿正对玻璃观察窗）；? C、?断开冷凝水管，取出样品台，取样；?D、?将样品台放入腔体，接上冷凝水管。?7、?关机? A、?关闭总电源；? B、?关闭计算机（勿忘记关闭电磁阀）

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电子束蒸发镀膜机优点

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸发镀膜系统

优点电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，比一般电阻加热蒸发热*、 束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质 量好，厚度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。 [2] 电子束蒸发的特点是不会或很少覆盖在目标三维结构的两侧，通常只会沉积在目标表面。这是电子束蒸发和溅射的区别

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电子束蒸发镀膜的特点　　

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，电子束蒸发镀膜系统，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸发镀膜系统

电子束蒸发镀制TiO2薄膜，采用下图所示的离子束辅助电子束蒸发的INTEGRITY-39全自动光学镀膜系统。

1.冷却水进口;2.冷却水出口;3.坩埚;4.束流线圈;5.电子束发射;6.加热灯;7.基片架;8.电机;9.监控片;10.离子源

镀制样品电子枪工作电压为10 kV，电流为200 A，电子束蒸发镀膜系统生产厂家，真空室沉积温度为145～155℃。膜料选用纯度为99.99%的黑色颗粒状Ti2O3，采用CC-105冷阴****离子束进行辅助沉积，沉积时真空室充入纯度为99.99%的O2作为反应气体，同时使用1179A型MKS质量流量计控制反应气体O2的流量，基底为直径25 mm的圆形K9玻璃。

　镀制时用机械泵和扩散泵将真空度抽至6.5×10-4Pa时，设定自动镀制程序。当基底被加热到沉积温度150℃时，离子源开始轰击基底，能量控制在60～90 eV，时间10 min。然后自动启动电子枪加热蒸发膜料，沉积薄膜，沉积速率0.38～0.42 nm/s，薄膜沉积到设计厚度440 nm时，程序自动关闭电子枪，完成镀制。

镀膜后真空室自然冷却到室温取出样品，用Lambda900(测试范围为175～3 300 nm)分光光度计进行样品TiO2的光谱测试，采用M*eod软件包络法计算TiO2薄膜的实际厚度，消光系数和折射率。

对真空室通入不同流量的高纯氧气，研究不同的真空度对TiO2的成膜质量、折射率、吸收系数的影响。

在较高的真空度下用离子源辅助蒸发沉积TiO2薄膜时，真空度随通氧量的变化如下表所列。

随着充入真空室内的氧分子被电离成氧离子充分与Ti2O3蒸气分子反应，使得Ti2O3分解所失的氧得到补充，从而生成的薄膜中TiO2成分比较纯净，但是如果通氧量不足或Ti2O3与O2反应不充分，则会形成高吸收的亚氧化钛薄膜TinO2n-1(n=1，2，……，电子束蒸发镀膜系统价格，10)。随着通氧量的增加，TiO2蒸气分子在蒸发上升过程中与氧分子的碰撞几率*而损失了能量，使沉积在基底表面的TiO2动能减小，影响沉积薄膜的附着力和致密性。

对于光学薄膜而言，采用离子源辅助能够增加基底表面膜层分子的动能，不仅对薄膜的折射率有明显的影响，而且能使薄膜致密性及耐潮湿性得以****，同时薄膜在基底上的附着力也有明显好转

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