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在真空镀膜中`AR表示什么`

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，电子束蒸镀机生产厂家，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸镀机

真空镀膜：

一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法****早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜设备结构如图1。

蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。

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比较激光表面处理技术和电子束表面处理技术的异同点

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电子束蒸镀机

电子束、离子束、激光束是表面工程领域内的三大载体，号称三束改性。都具有高能量密度特性。

顾名思义电子束加工是以激发电子作为载体，离子束则以离子。离子束加工是一种元素注入过程，具有辐照损伤、喷丸作用、表面压缩、形成表面非晶态，形成弥散化合物质点等效应，而电子束与激光束的主要作用在高能量，没有辐照、表面压缩等特性。

1.加工原理:电子束和离子束的加工原理相似，都是发生撞击效应、溅射效应和 注入效应，从而实现加工;而激光束加工的机理是热效应。

2.加工装置:电子束和离子束相似，主要由电子枪系统、真空系统、控制系统、 和电源系统做成;而激光束是由激光器、电源、光学系统、机械系统等组成。

3.加工特点:

电子束: (1).束径小、能量密度高; (2).非接触加工，加工过程中工具与加工工件之间不存在明显的机械切削力，不产生宏观 应力和变形; (3).被加工对象范围广; (4).电子束能量高，加工速度快、*; (5).电子束加工需要一套*设备和真空系统，价格昂贵。

离子束: (1).加工精度和表面质量高; (2).加工材料广泛; (3).加工方法丰富; (4).性能好，易于实现自动化; (5).应用范围广泛，可根据加工要求选择。

激光束: (1).加工精度高; (2).加工材料范围广; (3).加工性能好; (4).加工速度快、*; (5).价格昂贵 加工方法:

电子束; (1).电子束扫描*; (2).电子束投影*; (3).电子束表面改性。

离子束: (1).离子束溅射去除加工; (2).离子束溅射镀膜加工; (3).离子束注入加工; (4).离子束*加工。

激光束: (1).加工精度高; (2).加工材料范围广; (3).加工性能好; (4).加工速度快、*; (5).价格昂贵。

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电子束蒸发镀膜的特点　　

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电子束蒸镀机

电子束蒸发镀制TiO2薄膜，采用下图所示的离子束辅助电子束蒸发的INTEGRITY-39全自动光学镀膜系统。

1.冷却水进口;2.冷却水出口;3.坩埚;4.束流线圈;5.电子束发射;6.加热灯;7.基片架;8.电机;9.监控片;10.离子源

镀制样品电子枪工作电压为10 kV，电子束蒸镀机公司，电流为200 A，真空室沉积温度为145～155℃。膜料选用纯度为99.99%的黑色颗粒状Ti2O3，采用CC-105冷阴****离子束进行辅助沉积，电子束蒸镀机厂家*，沉积时真空室充入纯度为99.99%的O2作为反应气体，同时使用1179A型MKS质量流量计控制反应气体O2的流量，基底为直径25 mm的圆形K9玻璃。

　镀制时用机械泵和扩散泵将真空度抽至6.5×10-4Pa时，设定自动镀制程序。当基底被加热到沉积温度150℃时，离子源开始轰击基底，能量控制在60～90 eV，时间10 min。然后自动启动电子枪加热蒸发膜料，沉积薄膜，沉积速率0.38～0.42 nm/s，电子束蒸镀机，薄膜沉积到设计厚度440 nm时，程序自动关闭电子枪，完成镀制。

镀膜后真空室自然冷却到室温取出样品，用Lambda900(测试范围为175～3 300 nm)分光光度计进行样品TiO2的光谱测试，采用M*eod软件包络法计算TiO2薄膜的实际厚度，消光系数和折射率。

对真空室通入不同流量的高纯氧气，研究不同的真空度对TiO2的成膜质量、折射率、吸收系数的影响。

在较高的真空度下用离子源辅助蒸发沉积TiO2薄膜时，真空度随通氧量的变化如下表所列。

随着充入真空室内的氧分子被电离成氧离子充分与Ti2O3蒸气分子反应，使得Ti2O3分解所失的氧得到补充，从而生成的薄膜中TiO2成分比较纯净，但是如果通氧量不足或Ti2O3与O2反应不充分，则会形成高吸收的亚氧化钛薄膜TinO2n-1(n=1，2，……，10)。随着通氧量的增加，TiO2蒸气分子在蒸发上升过程中与氧分子的碰撞几率*而损失了能量，使沉积在基底表面的TiO2动能减小，影响沉积薄膜的附着力和致密性。

对于光学薄膜而言，采用离子源辅助能够增加基底表面膜层分子的动能，不仅对薄膜的折射率有明显的影响，而且能使薄膜致密性及耐潮湿性得以****，同时薄膜在基底上的附着力也有明显好转

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