北京泰科诺科技公司-磁控溅射镀膜设备
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- 名称北京泰科诺科技有限公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 朱经理
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价格
面议
点此议价
- 采购量 不限制
- 发布日期 2019-01-21 11:24 至 长期有效
北京泰科诺科技公司-磁控溅射镀膜设备产品详情
磁控溅射镀膜设备及技术
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜设备哪里有,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
磁控溅射镀膜设备
磁控溅射镀膜设备及技术
(专利产品)该机采用磁控溅射镀膜(MSP)技术,是一种多功能、*的镀膜设备。可根据用户要求配置旋转磁控靶、脉冲溅射靶、中频孪生溅射靶、非平衡磁控溅射靶、霍尔等离子体源、考夫曼离子源、直流脉冲叠加式偏压电源等,组态灵活、用途广泛,主要用于金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷等)的工件镀铝、铜、铬、钛金、银及不锈钢等金属膜或非金属膜及渗金属DLC膜,所镀膜层均匀、致密、附着力强等特点,可广泛用于家用电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯反光罩以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。2 离子轰击渗扩技术的特点(1) 离子轰击渗扩速度快 由于采用等离子溅射,为渗剂原子和离子的吸附和渗人创造了高度活化的表面,增加了晶体中缺陷的密度,比传统的气体渗扩技术速度明显****。在同样工艺条件下,渗层深度在0.05二 之内,比气体渗扩****1倍。在较高温度下,1h即可达lmm厚。(2)对工件表面改..
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设备主要优势
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
磁控溅射镀膜设备
设备主要优势
2.1 实用性:设备集成度高,结构紧凑,磁控溅射镀膜设备出售,占地面积小,可以满足客户实验室空间不足的苛刻条件;通过更换设备上下法兰可以实现磁控与蒸发功能的转换,实现一机多用;
2.2 方便性:设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接线及安装调试简单,磁控溅射镀膜设备哪家优惠,既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁;
2.3 高性价比:设备主要零部件采用进口或国内*品牌,以国产设备的价格拥有进口设备的配置,从而保证了设备的质量及性能;
2.4 安全性:*开发的PLC 触摸屏智能操作系统在传统操作系统的基础上新具备了漏气自检与提示、通讯故障自检、*维护提示等功能,保证了设备的使用安全性能;
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磁控溅射镀膜机
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜设备,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。
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磁控溅射镀膜机
由于ITO 薄膜的导电属于n 型半导体性质,即其导电机制为还原态In2O3 放出两个电子,成为氧空穴载流子和In3 ,被固溶的四价掺锡置换后放出一个电子成为电子载流子。显然,不论哪一种导电机制,载流子密度均与溅射成膜时的氧含量有很大关系。随着氧含量的增加,当膜的组分接近化学配比时,迁移率有所增加,但却使载流子密度有所减少。这两种效应的综合结果是膜的光电性能随氧含量的变化呈****值现象。对应****值的氧含量直接决定着“工艺窗口”的宽窄,它与成膜时的基底温度、气流量及膜的沉积速率等参数有关。为便于控制氧含量,我们采用混合比为85∶15 的氧混合气代替纯氧,气体喷孔的设计保证了基底各处氧分子流场的均匀性。
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