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磁控溅射镀膜机

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控溅射镀膜

磁控溅射镀膜机

铟锡氧化物( Indium Tin Oxide ，简称ITO) 薄膜是一种用途广泛的透明导电材料，已成熟的应用于电机车挡风玻璃、液晶显示器件、太阳能电池、全息照相和液晶彩色电视等，蓄势待发的应用领域为有机发光二****管显示器(Organic Light-Emitting Diode ，简称OLED) 。从应用角度出发，通常要求ITO 薄膜的成份是In2O3 和SnO2 ，薄膜中铟锡低价化合物愈少愈好。ITO 薄膜的制备方法很多，如喷涂、蒸发、射频溅射和磁控溅射等。随着液晶显示器技术向高精细化和大型化发展，磁控溅射法备受欢迎。

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磁控溅射镀膜设备技术的特点

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控溅射镀膜

磁控溅射镀膜设备技术的特点

(1) 离子轰击渗扩速度快 由于采用等离子溅射，为渗剂原子和离子的吸附和渗人创造了高度活化的表面，增加了晶体中缺陷的密度，比传统的气体渗扩技术速度明显****。在同样工艺条件下，渗层深度在0.05二 之内，比气体渗扩****1倍。在较高温度下，1h即可达lmm厚。

(2)对工件表面改性效果显著，表面质量高，真空加热易消除高温冶炼时溶解的气体，磁控溅射镀膜，并可通过渗人金属改变基体的*和结构，使*性、耐腐蚀性、硬度和冲击韧性等诸多性能得到****。并且由于清洗作用，使金属表面粗糙度降低，去除金属表面的杂质和污物，磁控溅射镀膜多少钱，****了金属的表面质量。

(3) 工艺适应性强，便于处理形式复杂的工件。传统的离子注人技术的致命弱点是注人过程是一个视线过程，只有暴露在离子枪口下的工件表面才能被注人，对于工件中需要表面改性的内表面或沟槽表面等，离子束则难以达到，并且一次只能注人一个工件，注人效率低，设备复杂昂贵

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镀膜设备原理及工艺

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磁控溅射镀膜

镀膜设备原理及工艺

主要溅射方式：

反应溅射是在溅射的惰性气体气氛中，通入一定比例的反应气体，通常用作反应气体的主要是氧气和氮气。

直流溅射(DC Magnetron Sputtering)、射频溅射(RF Magnetron Sputtering)、脉冲溅射(PulsedMagnetro n Sp uttering)和中频溅射(Medium Fre2quency Magnetro n Sp uttering)

直流溅射方法用于被溅射材料为导电材料的溅射和反应溅射镀膜中，其工艺设备简单，有较高的溅射速率。

中频交流磁控溅射在单个阴****靶系统中，磁控溅射镀膜哪里有，与脉冲磁控溅射有同样的释放电荷、****打弧作用。中频交流溅射技术还应用于孪生靶(Twin2Mag)溅射系统中，中频交流孪生靶溅射是将中频交流电源的两个输出端，分别接到闭合磁场非平衡溅射双靶的各自阴****上，因而在双靶上分别获得相位相反的交流电压，一对磁控溅射靶则交替成为阴****和阳****。孪生靶溅射技术大大****磁控溅射运行的稳定性，可避免被毒化的靶面产生电荷积累，引起靶面电弧打火以及阳****消失的问题，溅射速率高，为化合物薄膜的工业化大规模生产奠定基础。

连续式的磁控溅射生产线 总体上可以分为三个部分: 前处理， 溅射镀膜， 后处理。

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