北京泰科诺公司(图)|磁控镀膜设备哪家好|磁控镀膜设备

磁控溅射镀膜设备

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控镀膜设备

磁控溅射种类

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而*电子撞击Ar产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴****按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态和非平衡磁控阴****。平衡态磁控阴****内外磁钢的磁通量大致相等，两****磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，****了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材利用率相对较高，但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面，基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念，即让磁控阴****外磁****磁通大于内磁****，两****磁力线在靶面不完全闭合，部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域，从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片，增加基片磁控溅射区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为*靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。

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北京泰科诺科技有限公司成立于2003年，多年来专注于真空镀膜设备及工艺的研发、制造、销售和服务。专为各大高校、科研院所和生产企业服务，磁控镀膜设备，产品主要包含热蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜设备、电子束蒸发镀膜机、多弧离子溅射镀膜机、热丝CVD设备、装饰镀膜机、DLC硬质涂层设备等等。目前有超1000台设备运转，产品遍布全国各地（含港澳台），远销至美国、澳大利亚、土耳其、马来西亚等国，磁控镀膜设备哪家好，深受用户好评。

磁控溅射镀膜设备 Magnetron Sputtering System

产品特点 Product Features：

1. 工艺成熟，性能稳定，使用维护成本低；

2. 功能强大，磁控镀膜设备哪家好，可实现单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等；

3. 选择多样化，可单独、与手套箱集成、带进样室使用；

4. 适用范围：制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等；镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等。

磁控溅射设备作用

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

磁控镀膜设备

磁控溅射靶在镀膜过程中的重要作用? ??

磁控溅射靶是真空磁控溅射镀膜的核心部件，它的重要作用主要表现在以下两个方面(1)对于大面积表面的镀膜，磁控溅射靶影响着膜层的均匀性与重复性；(2)当膜层材料为*时，磁控镀膜设备哪家好，靶的结构决定着靶材(形成薄膜的材料)，即该*的利用率

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