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真空蒸镀工艺一般包括基片表面清洁、镀膜前的准备、蒸镀、取件、镀后处理、检测、成品等步骤。(1)基片表面清洁。真空室内壁、基片架等表面的油污、锈迹、残余镀料等在真空中易蒸发,直接影响膜层的纯度和结合力。镀前必须清沽干净。


主要特点/优势:

★ 完全封闭的系统框架设计,外观更*亮,薄膜蒸镀机,使用更安全;是一台兼具美学和用户操控体验的全新升级产品;

★ 前开门真空腔体,方便取放基片、更换蒸发舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护;

★ 1200L/s分子泵作为主抽泵,真空****限高达5×10-5Pa(3.75×10-7Torr);另可选进口磁悬浮分子泵或者低温泵作为主抽泵,真空****限高达3×10-6Pa(2×10-8Torr);



镀铝薄膜的基材主要是塑料薄膜和纸张。 真空蒸镀工艺对被镀基材有以下几点要求:

(1)耐热性好,连云港蒸镀,基材必须能耐受蒸发源的辐射热和蒸发物的冷凝潜热。

(2)从薄膜基材上产生的挥发性物质要少;对吸湿性大的基材,在镀膜前理。

(3)基材应具有一定的强度和表面平滑度。

(4)对蒸镀层的粘接性良好;对于PP、PE等非****性材料,金属蒸镀机,蒸镀前应进行表面处理、以****与镀层的粘接性。  


真空蒸镀

蒸发源是用来加热膜料使之气化蒸发的部件。真空蒸发使用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、高频感应加热、电弧加热和激光加热等五大类。

加热方式

真空蒸镀使用的加热方式主要有:电阻加热、电子束加热。射频感应加热、电弧加热和激光加热等几种。不论哪一种加热方式,都要求作为蒸发源的材料具有以下性能:熔点高;蒸气压低;在蒸发温度下不与大多数蒸发材料发生化学反应或互溶,同时具有一定的机械强度。


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