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替代 安智 AZ1500 AZ6112 光刻胶 ****现货
第一枪帮您来“拼单”,更多低价等你来!替代 安智 AZ1500 AZ6112 光刻胶 ****现货
- 名称深圳市启耀光电有限公司 【公司网站】
- 所在地中国 广东 深圳 宝安区
- 联系人 朱小姐
- 价格 ¥200元/千克 点此议价
- 采购量 不限制
- 发布日期 2022-01-05 17:19 至 长期有效
热线:15220133370
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替代 安智 AZ1500 AZ6112 光刻胶 ****现货 产品详情
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- 品牌:ST/意法半导体
- 封装形式:DIP
- 类型:数字集成电路
- 用途:手机
- 功能:显示电路
- 导电类型:双极型
- 封装外形:金属壳圆形型
- 集成度:小规模(<50)
- 加工定制:是
- 型号:AZ400K AZP4620 AZ1500
- 批号:替代 安智 AZ1500 AZ6112 光刻胶 正品现货
- 工作电源电压:安智 AZ1500
- 最大功率: AZ6112 AZ6130
- 工作温度: AZ3100 光刻胶 正品现货
- 外形尺寸:安智AZ光刻胶
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****现货 光电实验室 正性 负性 聚酯型 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 宽膜厚
****现货光电所 正性 负性 信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 成分稳定
大学研究所 正性 负性 厚浆 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 ****现货 附着性好
供应中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 现货 湿法刻蚀
成份稳定 光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 ****现货
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研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 应用广泛 ****现货
供应大学研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用 稳定现货
现货 中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 附着性好 供应
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光电所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 刻蚀工艺 应用广泛 ****现货
****现货 大学研究所 圆片级封装(WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 分辨率高
中科院 圆片级封装(WLP) 正性 负性 光刻胶 高纵宽比 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT ****现货
供应 光电实验室 圆片级封装(WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ 现货 AZ50XT AZ10XT 附着性好
****现货 光电所 圆片级封装(WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 电镀工艺高耐受性
****现货 研究所 圆片级封装(WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 凸点UBM工艺
****现货大学研究所 圆形化衬底(PSS)正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 G线I线通用
****现货中科院 圆形化衬底(PSS)正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高感光度
****现货光电实验室 圆形化衬底(PSS)正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高产出率
****现货研究所 圆形化衬底(PSS)正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 干法刻蚀
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****现货大学研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E
****现货中科院 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 分辨率好
****现货光电实验室 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 宽膜厚范围
****现货光电所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 正/负反转
****现货研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 可靠性高
****现货大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高对比度
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****现货光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 成分稳定
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****现货研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 附着性高
****现货大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高对比度
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****现货中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 应用广泛
****现货大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 高对比度
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中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 应用广泛
****现货光刻胶 显影液 剥离液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
****现货厚膜正型光刻胶 显影液 剥离液 AZ400K AZ300MIF 适用各种显影工艺
****现货光刻胶 Puddle工艺 显影液 腐蚀剂 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
****现货光刻胶 Dip工艺 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 去除 无需表面活性剂
****现货大学研究所 光刻胶 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 显影效果好
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****现货大学研究所 光刻胶 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 显影效果好
以上内容为替代 安智 AZ1500 AZ6112 光刻胶 ****现货 ,本产品由深圳市启耀光电有限公司直销供应。
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