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     晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。

      一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准*、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“*”到硅片上的过程。


        光刻机的匹配调整是-项非常复杂的工作,在进行调整时,以下几点准则应当遵循:

●匹配使用的光刻机,首先应该是各单台光刻机调整到设备本身的****.佳状态,各项技术指标必须在设备规定的范围之内。

●设备进行匹配调整时,凡是能通过软件修正量的改变能实现的尽量使用软件方式来调整,因为软件调整是可改变的,可恢复的。而机器硬件调整的可恢复性比较差,特别是有严格精度要求的,基本上没有硬件调整的余地。


      光刻机

      光刻工艺通过*的方法将掩模上的图形转移到涂覆于硅片表面的光刻胶上,然后通过显影、刻蚀等工艺将图形转移到硅片上。光刻工艺直接决定了大规模集成电路的特征尺寸,是大规模集成电路制造的关键工艺。作为光刻工艺中****重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大规模集成电路制造技术飞速向前发展。


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