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光刻机光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动

****光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的****光刻机)和日本Canon三大品牌为主。


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扫描步进投影*(Scanning-Stepping Project Printing)。90年代末~至今,用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4:1的比例*,*区域(Ex*ure Field)26×33mm。优点:*了每次*的视场;提供硅片表面不平整的补偿;****整个硅片的尺寸均匀性。但是,同时因为需要反向运动,增加了机械系统的精度要求。


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光刻注意事项给出如下:

前烘

  前烘的目的是去除胶模中的绝大部分溶剂,增强胶模的光敏性。还可以****胶模的均匀性和黏附性。前烘温度不高,一般为100℃左右。

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