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<*n style='font-size:24px;color:#E53333;'>捷扬光电 JFD-2000 膜厚检测仪 有机发光膜的厚度检测

<*n style='font-size:24px;color:#E53333;'>

<*n style='font-size:24px;'><*n style='font-size:16px;'>有机发光显示器正迅速从实验室转向大规模生产。明亮，超薄，动态的特性使它们成为从手机到电视显示屏的选择。组成显示屏的多层薄膜的精密测量非常重要，但不能用传统接触型的轮廓仪，因为它会*显示屏表面。我们的JFD-2000膜厚检测仪将提供廉价，可靠，非*测量原型装置和全像素化显示屏。我们的光谱仪还可以测量大气敏感材料的化学变化。<*n style='font-size:16px;'>

<*n style='font-size:24px;'><*n style='font-size:16px;'>

测量透明导电氧化膜

不论是铟锡氧化物，氧化锌，还是聚合物（3,4-乙烯基），我们****的光学模型，加上可见/近红外仪器，可以测得厚度和光学常数，费用和操作难度仅是光谱椭偏仪的一小部分。

测量复杂的有机材料

典型的有机发光显示膜包括几层： 空穴注入层，空穴传输层，以及重组/发光层。所有这些层都有不寻常有机分子（小分子和/或聚合物）。虽然有机分子高度反常色散，测量这些物质的光谱反射充满挑战，但对捷扬光电的JFD-2000却不尽然。我们的材料数据库覆盖整个OLED的开发历史，能够处理随着有机分子而来的高折射散射和多种紫外光谱特征。

软基底上的薄膜

有机发光显示器具有*柔性显示的潜力，要求测量像PET（聚乙烯）塑料这样有高双折射的基准，这对托偏仪测量是个严重的挑战： 或者模拟额外的复杂光学，或者打磨PET背面。 而这些对我们非偏振反射光谱来说都不需要，****大地节约了人员培训和测量时间。

操作箱中测量

有机发光显示器材料对水和氧****度敏感。 很多科研小组都要求在控制的干燥氮气操作箱中测量。 而我们体积小，模块化，光纤设计的仪器提供非密封、实时“操作箱”测量。

<*n style='color:#E53333;'>捷扬光电 提供 ****测试 - 一般 1-2 天得到结果。 联络 我们讨论您的测量需要。

捷扬光电 JFD-2000 膜厚检测仪 检测实例

<*n style='font-size:18px;'>JFD-2000 膜厚检测仪几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。

<*n style='font-size:18px;'>包括：

<*n style='font-size:18px;'> sio2（二氧化硅）

<*n style='font-size:18px;'>sinx（氮化硅）

<*n style='font-size:18px;'>dlc（类金刚石碳） 

<*n style='font-size:18px;'> photoresist（光刻胶）

<*n style='font-size:18px;'>polyer layers（高分子聚合物层）

<*n style='font-size:18px;'>polymide（聚酰*）

<*n style='font-size:18px;'> polysilicon（多晶硅） 

<*n style='font-size:18px;'>amorphous silicon（非晶硅） 

<*n style='font-size:18px;'>基底实例：  对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。 

<*n style='font-size:18px;'>包括： 

<*n style='font-size:18px;'> silicon（硅） 

<*n style='font-size:18px;'>glass（玻璃） 

<*n style='font-size:18px;'>aluminum（铝） 

<*n style='font-size:18px;'> gaas（****） 

<*n style='font-size:18px;'>steel（钢） 

<*n style='font-size:18px;'>polycarbonate（聚碳酸脂） 

<*n style='font-size:18px;'>polymer films（高分子聚合物膜）<*n style='font-size:18px;'>

<*n style='color:#E53333;font-size:24px;'>捷扬光电 JFD-2000 膜厚检测仪 <*n style='color:#E53333;font-size:24px;'>测量光刻胶的厚度

<*n style='font-size:16px;'>成功测量光刻胶要面对一些*的挑战， 而 捷扬光电<*n style='font-size:16px;'> 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射， 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库, 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。<*n style='font-size:16px;'>

<*n style='font-size:16px;'>测量JFD-2000 膜厚检测仪<*n style='font-size:16px;'> 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂<*n style='font-size:16px;'>的方法虽简便快速，但可能会导致所需厚度不太准确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度, 因此必须进行准确测量。 另外，由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构, 了解各层的厚度就变得****端重要。

<*n style='color:#009900;font-size:16px;'>捷扬光电<*n style='font-size:16px;'> <*n style='font-size:16px;'>提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。 <*n style='color:#009900;font-size:16px;'>捷扬光电JFD-2000膜厚检测仪<*n style='font-size:16px;'> <*n style='font-size:16px;'>能通过准确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 自主研发的算法使得“一键”分析成为可能，通常在一秒钟内即可得到结果。

<*n style='font-size:16px;'>联络 捷扬光电<*n style='font-size:16px;'>讨论您的测量需要。