半导体_苏州晶淼半导体_湖北半导体清洗台
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- 名称苏州晶淼半导体设备有限公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 王海龙
- 价格 面议 点此议价
- 采购量 1
- 发布日期 2016-12-05 12:46 至 长期有效
半导体_苏州晶淼半导体_湖北半导体清洗台产品详情
清洗安全操作规范:
(1)操作*定要检查工作台通风是否良好,如有异常,向上级汇报或向动力保障部门说明情况,请求调整;
(2)在通风橱里开启药品,并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套;
(3)*开启前,都必须将外面的塑料袋、橡皮筋取下并扔进垃圾桶;
(4)拧开药品盖后,取下瓶口的塑封膜并扔进垃圾桶,在倾倒药品时,一定要确定塑封膜是否在瓶上。
基于APM(NH4OH:H2O2:H2O)的化学材料在微粒去除方面仍占主宰地位,但如果没有兆频超声波强化,其作用就不是很有效。基于****初RCA(HPM:HCl:H2O2:H2O)配方的去除金属的化学材料差不多都放弃了。
与洁净得多的*蚀剂和化学材料结合在一起的*化学是在这一领域成功的关键。此外,几何图形非常密集的器件制造的污染控制也推动了各种*技术的研发,例如包括超临界CO2(SCCO2)清洗。
RCA清洗法:自从20世纪70年代RCA清洗法问世之后,几十年来被*广泛采用。它的基本步骤****初只包括碱性氧化和酸性氧化两步,但目前使用的RCA清洗大多包括四步,即先用含*的酸性*进行酸性氧化清洗,再用含胺的弱碱性*进行碱性氧化清洗,接着用稀的****溶液进行清洗,****后用含盐酸的酸性*进行酸性氧化清洗,在每次清洗中间都要用超纯水(DI水)进行*洗,****后再用低沸点*进行干燥。
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