半导体湿法设备,半导体清洗,苏州晶淼半导体

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名称苏州晶淼半导体设备有限公司【公司网站】
所在地中国
联系人 王海龙
价格面议点此议价
采购量 1
发布日期 2016-10-25 16:08 至长期有效

热线：18913753756

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酸加氧化剂清洗:

　　酸加氧化剂清洗液配方为:HCI∶H2O2∶H2O=1∶5∶5~1∶10∶10,可溶解碱金属离子,并生成碳酸盐和铝、铁及镁之氢氧化物,另外盐酸中氯离子与残留金属离子发生络合反应形成易溶于水溶液的络合物,也可去除金属污染物。*一方面可以去除有机物污染,另外配合搅拌和超声过程中形成的大量气泡对表面大颗粒污染物产生较大冲击力,使污染物脱离表面。

苏州晶淼半导体设备有限公司，我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、LED等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。

苏州晶淼半导体设备有限公司，天道酬勤，商道酬信！精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求，真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升中国湿制程设备制造水平和服务，成为湿制程设备供应商的*！

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