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      晶圆清洗是半导体制造典型工序中****常应用的加工步骤。就硅来说,清洗操作的化学制品和工具已非常成熟,有多年广泛深入的研究以及重要的工业设备的支持。所以,硅清洗技术在所有具实际重要性的半导体技术中是****为成熟的****个完整的、基于科学意义上的清洗程序在1970年就提出了,这是专门设计用于清除Si表面的微粒、金属和有机污染物。


      半导体器件技术飞速地扩展进入主流硅逻辑和模拟应用以外的领域。在显示技术、太阳电池板技术和一些其它大面积光电系统中,其表面需要加工的材料可能包括玻璃、ITO(铟锡氧化物)或柔性塑料衬底等等。

     


清洗安全操作规范:

(1)操作*定要检查工作台通风是否良好,如有异常,向上级汇报或向动力保障部门说明情况,请求调整;

(2)在通风橱里开启药品,并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套;

(3)*开启前,都必须将外面的塑料袋、橡皮筋取下并扔进垃圾桶;

(4)拧开药品盖后,取下瓶口的塑封膜并扔进垃圾桶,在倾倒药品时,一定要确定塑封膜是否在瓶上。




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