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常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过*制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。

注意的问题：

减少侧蚀和突沿，电力牌刻蚀机深腐刻图文字，提高蚀刻系数

侧蚀产生突沿。通常印制板在蚀刻液中的时间越长，(或者使用老式的左右摇摆蚀刻机)侧蚀越严重。侧蚀严重影响印制导线的精度，严重侧蚀将使制作精细导线成为不可能。当侧蚀和突沿降低时，蚀刻系数就升高，高的蚀刻系数表示有保持细导线的能力，使蚀刻后的导线接近原图尺寸。电镀蚀刻*蚀剂无论是锡-铅合金，锡，电力牌刻蚀机价格，锡-镍合金或镍，突沿过度都会造成导线短路。因为突沿容易断裂下来，鹤岗电力牌刻蚀机，在导线的两点之间形成电的桥接。

提高板子与板子之间蚀刻速率的一致性

在连续的板子蚀刻中，电力牌刻蚀机制作标牌机器，蚀刻速率越一致，越能获得均匀蚀刻的板子。要达到这一要求，必须保证蚀刻液在蚀刻的全过程始终保持在佳的蚀刻状态。这就要求选择容易再生和补偿，蚀刻速率容易控制的蚀刻液。选用能提供恒定的操作条件和对各种溶液参数能自动控制的工艺和设备。通过控制溶铜量，PH值，溶液的浓度，温度，溶液流量的均匀性(喷淋系统或喷嘴以及喷嘴的摆动)等来实现。

平面图弹是运用于高精密电子器件通信.学.电子光学.地质勘探及其电动机等领域的高精密零部件，也称平面图弹簧。一般选用薄厚较薄的金属原材料开展生产加工，有不锈钢板和合金铜的材料。由于生产加工原材料较薄，非常容易形变，因而一般会挑选蚀刻机生产加工开展制做。选用金属有机化学蚀刻开展生产加工的平面图弹，*，不会改变。金属蚀刻中，蚀刻液的浓度值.溫度.纯净度都是会危害零件蚀刻加工的精密度，为了更好地获得达标的，优良的蚀刻加工实际效果与生产制造合格率，提议加工厂家每月少开展一次金属蚀刻液清槽。

实际金属蚀刻液清槽工艺流程如下所示：

1.将蚀刻加工槽内的金属蚀刻液抽出来过虑储放于密封器皿内。

2.槽内加水﹐并运行蚀刻加工马达循环系统约10min。

3.将槽内的液态排出掉。

4.加水再添加HCl10%水溶液﹐运行蚀刻加工马达循环系统约30min。

5.排出来四流程的液态。

6.加水并运行蚀刻加工马达循环系统约10min。

7.将槽液排出掉。

8.加水加上3-5%或子液中合﹐并运行蚀刻加工马达循环系统约30min。

9.将槽液排出掉。

10.加水并运行蚀刻加工马达循环系统约10min。

11.将槽液排出掉。

12.添加新的金属蚀刻液。

等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法：反应性等离子体（RIE），顺流等离子体（downstream），直接等离子体（direction pla*a）。




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