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无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，小型气相沉积设备，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响较小。

Parylene是美国Union Carbide Co.公司在六十年代推出的一种气相沉积高分子聚合物材料，由的真空气相沉积工艺制备，能涂敷到各种形状的表面，气相沉积设备多少钱，号称“无孔不入”，被业内称为好的防潮、防霉、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。Parylene可分为N型、C型、D型、F型、HT型等多种类型

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真空镀膜技术应用越来越广泛。随着工业技术的不断发展，对材料的综合性能要求也不断提高，单一材料性能已不能满足某些特定环境下工作机械的性能要求。从半导体集成电路、LED、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜设备、技术、材料需求都在不断增加;装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜;工、模具表面上应用的*超硬膜;纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等。

真空镀膜机是由真空炉体，真空泵，气相沉积设备，控制柜，真空计，冷却系统等部件组成，真空驴体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

根据工艺要求选择不同规格及类型真空镀膜机，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴*离子镀和多弧离子镀等。