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真空镀膜技术一般分为两大类:物*相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。真空蒸镀,其原理是在真空条件下,洪梅玻璃真空镀膜,用蒸发器加热带蒸发物质,使其气化或升华,蒸发离子流直接射向基片,玻璃真空镀膜价格,并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。真空镀膜应用,简单地理解就是在真空环境下,


离子镀:蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面,称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴*溅射技术的结合。一种离子镀系统,将基片台作为阴*,外壳作阳*,充入惰性气体以产生辉光放电。PVD镀膜主要应用在一些比较好的五金制品上,对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。


真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较,具有下列几个优点:各种镀膜技术都是需要有一个蒸发源或者是靶子,以便把蒸发制膜的材料转化成气体。由于源或靶的不断改进,大大扩大了制膜材料的选用范围,无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质,都可以蒸镀各种金属膜和介质膜,而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。


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