厚光刻胶价格-厚光刻胶-北京赛米莱德有限公司
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- 名称 北京赛米莱德贸易有限公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 况经理
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价格
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- 采购量 不限制
- 发布日期 2022-04-18 10:11 至 长期有效
厚光刻胶价格-厚光刻胶-北京赛米莱德有限公司产品详情
光刻胶的组成
光刻胶一般由4种成分组成:树脂型聚合物、光活性物质、溶剂和添加剂。树脂是光刻胶中占比较大的组分,构成光刻胶的基本骨架,主要决定*后光刻胶的基本性能,包括硬度、柔韧性、附着力、耐腐蚀性、热稳定性等。光活性物质是光刻胶的关键组分,对光刻胶的感光度、分辨率等其决定性作用。
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光刻胶的相关信息
利用这种性能,将光刻胶作涂层,就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构,厚光刻胶报价,光刻胶可以分为三种类型。
光聚合型采用烯类单体,在光作用下生成自由基,厚光刻胶,自由基再进一步引发单体聚合,后生成聚合物,具有形成正像的特点。光分解型采用含有叠氮醌类化合物的材料,经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性,可以制成正性胶。光交联型采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开,并使链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构,而起到*蚀作用,这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。
光刻胶分类
根据化学反应机理和显影原理的不同,厚光刻胶价格,光刻胶可以分为负性胶和正性胶。对某些溶剂可溶,但经*后形成不可溶物质的是负性胶;反之,对某些溶剂不可溶,经*后变成可溶的为正性胶。
从需求端来看,光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中,半导体光刻胶的技术壁垒较高。
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