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A9手机的面壳镀铜后镀LOU,深圳真空电镀,共10μ,镀LOU层0.18μ。真空电镀相对于水电镀来讲,表面硬度较低,*度也比较低,遇阳光易老化掉色,但污染较小。真空镀不导电

热处理主要的是焚烧法,七彩真空电镀,其可以大幅度减少电镀污泥的体积,降低污泥对环境的危害,近年一些学者在焚烧减容的基础上对焚烧渣的资源化利用进行了广泛的研究。但由于这种方法能耗较高,对焚烧设备和条件有一定要求,一般的小电镀厂家难以承受巨额的处理费用,所以这种处理方法很难得到推广。








在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法称为真空镀膜,目前在工业领域应用较多的为真空蒸镀和溅射镀膜两种镀膜技术。

真空镀膜技术*应用是在1930年油扩散泵和机械泵技术推出后。1935年研制出采用真空沉积技术的减反射膜,并在1945年应用于眼镜片的镀膜。随着科技的不断发展,真空镀膜技术和设备发展迅速,广泛应用于工业领域,包括建筑五金、锁具、制表、大型工件等物品的均匀镀膜等,以达到诸如增加光学镜头的透光率或反光率、使五金、锁具、塑料制品等产品美观、*、防腐蚀等目的。






为了满足更安全、更节能、降低噪声、减少污染物排放的要求,在表面处理工艺上,真空电镀已经成为环保新趋势。与一般的电镀不同,真空电镀更加环保,同时,真空电镀可以生产出普通电镀无法达到的光泽度很好的黑色效果。

在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,幻彩真空电镀,则要求压力更低( 10-5Pa )。镀层厚度0.04-0.1um太薄,*碎银真空电镀,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。厚度0.04时反射率为90%。

PC料耐温130℃,只有“真空电镀 UV油光固”才可达到耐130℃高温要求。而一般的水电镀是无法对PC料进行电镀的。

一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊.工艺有蒸镀、溅镀等






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