激光打标设备-巢湖激光打标机-恒元雕刻机

半导体泵浦激光器产生废热少，所需冷却系统小，一般只需1匹的冷水机即可，需灯泵浦激光器一般都需要二匹以上的冷水机，同时需要较大水泵以提供较大的冷却水流。因此其运行灯泵浦激光标记机的运行噪音较大，同时庞大的冷水机会产生更多的热量，巢湖激光打标机，尤其在南方夏季，环境气温较高，这些多余的热量会使工人的工作环境更恶劣，或者需要更多的空调系统来调节工作环境的温度，*了生产成本。

由于半导体泵浦的转换，模式好，更易聚焦出高能量的更小面积的光点，光纤激光打标机，标记同样的物体时，其所需的外部能量会更小。同时其产生的废热也远远小于灯泵浦激光器，决定了其不需要灯泵浦激光器那样庞大的冷却系统。所以半导体泵浦的激光器系统的功耗比灯泵浦小得多。

一个50W的灯泵浦激光打标机的功耗在6KW左右，而一个50W半导体激光标记机的功耗只在2KW左右，以三年为例，一天工作24小时，一个月工作28天，一度工业用电1.1元，光耗电一项，一台半导体激光器就比一台灯泵浦激光器节省（6-2）KW*24小时*28天*12月*3年*1.1/度=10.645万 元！

1“6403”高能钕玻璃激光系统 1964年启动，后从技术上判定热效应是根本性技术障碍，激光打标设备，于1976年下马。这一项目对发展高能激光技术有历史贡献是不可忽视的，它使我国激光技术的水平上了一个台阶。其成果主要表现在：

（1）建成了具有工程规模的大口径（120毫米）振荡—放大型激光系统，大输出能量达32万焦耳；改善光束质量后达3万焦耳。

（2）实现了系统技术集成，成功地进行了实验，室内10米处击穿80毫米铝靶，室外2公里距离击穿0.2毫米铝耙，并系统地研究了强激光辐射的生物效应和材料*机理。

（3）一次揭示了强光对激光系统本身的光损伤现象和机制。

（4）一次深入和理解激光光束质量的重要性和物理内涵，采用了一系列提高光束质量 的性技术，如万焦耳级非稳腔激光器、片状激光器、振荡—扫瞄放大式激光系统、尖劈法光束质量诊断等。

（5）激光元器件和支撑技术有了突破性提高，如低吸收高均匀性钕玻璃熔炼工艺、高能脉冲氙气、高强度介质膜、大口径（1.2米）光学精密加工等。

（6）培养和造就 了一批技术骨干队伍。