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应该储存在密封的塑料瓶里。

在水中溶解HF(*)。用来雕刻玻璃，清洗铸件上的残砂，控制发酵，电抛光，清洗腐蚀半导体硅片(与HNO3混酸)。由于氢原子与氟原子之间的结合能力较强，使*无法在水中完全电离。

*可以溶解许多其他酸不能溶解的玻璃(主要成分:二氧化硅)。产生气体的反应方程如下:

SiO2(s) 4HF(aq)=SiF4(g)↑ 2H2O(l)

产生的SiF4可以继续和过量的HF产生*:

SiF4(g) 2HF(aq)=H2[SiF6](aq)，*是二元强酸。

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正因为如此，它必须储存在塑料(理论上，放在聚*制成的容器中)、蜡或铅制成的容器中。*没有还原性。如果你想长期储存，你不仅需要一个密封容器，还需要尽可能排出容器中的空气。

(可以腐蚀玻璃)与硅和硅化合物反应产生气态，但不会腐蚀塑料，石蜡，铅，金，铂。可以和水和乙醇混合使用。市场上销售的*溶质分数为40%，工业级*哪家质量好，相当于22.5毫升/升。*的35.35%是共沸混合物。毒性致死量为25毫克/公斤。具有腐蚀性，强烈腐蚀金属、玻璃和含硅物体。例如，吸入蒸汽或接触皮肤会导致更难愈合的*。

工业用氟加热至500℃进行热分解，或用萤石(氟化钙CaF2)和加热至700℃制备*。

*法将干燥的萤石粉与*按比例1:(1.2~1.3)混合，送入旋转反应炉进行反应，炉内气相温度控制在280℃±10℃。反应性气体进入粗馏塔，除去大部分*、水分和萤石粉，塔的温度控制在100~110℃，塔的顶部温度控制在35~40℃。粗*气体通过脱气塔凝结成液体，塔的温度控制在20~23℃，塔的顶部温度控制在-8℃±1℃，然后进入精馏塔进行精馏，塔的顶部温度控制在30~40℃，塔的顶部温度控制在19.6℃±0.5℃。

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*HydrofluoricAcid)是ofluoricAcid)是一种水溶液，具有清澈、无色、吸烟的腐蚀性液体，具有强烈的刺激性气味。氢氟是一种弱酸，具有很强的腐蚀性，对金属、玻璃和含硅物体有很强的腐蚀作用。例如，吸入蒸汽或接触皮肤会引起难以的。实验室通常使用萤石(主要成分是氟化钙)和，需要密封在塑料瓶中，并保存在阴凉处。

氟对衣物、皮肤、眼睛、呼吸道、消化道粘膜都有刺激、腐蚀作用，氟离子进入血液或组织后可与钙镁离子结合，使之成为不溶或微溶的氟化钙和氟化镁。

量大时可直接堵塞血管，直接或间接影响系统和系统的功能，引起低血钙、低血镁综合征，氟离子还可与血红蛋白结合形成氟血红素，*琥珀酸脱氢酶，降低致氧合作用，影响细胞呼吸功能。另外，*可引起接触部位明显，使组织蛋白脱水溶解，可迅速渗透角质层，渗透深层组织，溶解细胞膜，引起组织液化，工业级*哪里有卖，重者可深入骨膜和骨骼，潮州工业级*，使骨骼成为氟化钙，形成愈合缓慢的*。吸入高浓度蒸汽或经皮吸收可引起化性。

市场上常见的浓度：溶质质量分数40%，工业级；质量分数40%，电子级。对毒物造成高度危害。浓度为1.18g/cm3。

随着HF溶液质量分数的提高，对碳钢的腐蚀上升后下降。

当浓度较低时，由于氢键的形成具有弱酸性，但当浓度较高时(5毫升/升以上)会发生自偶电离。此时，*是一种酸性很强的酸。

液态*是一种酸性很强的酸，酸度相当于，但比氟磺酸弱。腐蚀性强，严重损害牙齿和骨骼。硅化合物腐蚀性强。