PEDOT/PSS厂-PEDOT/PSS-畅宏科技*静电剂

原位聚合法

原位聚合法是将单体或可溶性预聚体在基材表面聚合形成导电聚合物膜，主要包括直接聚合法、溶液聚合吸附法、化学气相沉积法、气相沉积聚合法、液相沉降聚合法。原位聚合法是一种*有前景的制作PEDOT对电*的方法，PEDOT/PSS厂，这种方法在制作其他PEDOT材料尤其是光学材料上得到了广泛的应用，PEDOT/PSS怎么样，一些xPEDOT薄膜对电*研究中的制膜均采用该方法。

近日，来自斯坦福大学的Alberto Salleo、荷兰埃因霍温理工大学的Yoeri van de Burgt和意大利技术研究院的Francesca Sa*ro团队在硬件层面实现了对*突触连接及其功能的模仿。其中突触前*元由可分泌多巴胺（*可塑性的关键*递质）PC-12细胞构成，突触后*元则为人造晶体管，门电路为PEDOT:PSS。当通电时，多巴胺可以还原PEDOT:PSS，PEDOT/PSS好不好，使沟道的电导率降低，PEDOT/PSS，从而实现对该人工突触权重的长期调控。这一过程模仿了人类*元在*递质作用的下的长期改变。该成果以“A biohybrid synapse with neurotran*itter-mediated plasticity”为题发表在《Nature Materials》上。

不同PEDOT核壳分散体的制备总结

聚3，4-乙撑二氧s吩（PEDOT）由于其高导电性、低能隙、优异的薄膜透明性以及环境稳定性在*静电涂层、光电子器件、电容器、电磁屏蔽、传感器、金属防腐等领域具有广阔的应用前景，然而其不溶问题限制了其应用。除了在单体水相聚合时加入聚by烯磺酸（PSS）制备PEDOT分散体外，许多研究者也开始探索其他方法，如制备PEDOT与其他物质的核壳分散体。本文将对主要几种PEDOT核壳分散体的制备进行总结。