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真空电镀主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀及分子束外延等。真空电镀的目的是为了改变物质表面的物理、化学性能，是真空表面处理技术的重要组成部分。 真空离子电镀工艺可以通过调节机器设备参数从而改变表面得到所需要的特定色彩。

镀膜原理是什么？其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，*灯具反光杯厂家，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。

镀膜的属性

金属外观 颜色均匀一致 耐久的表面，在各种基本的空气和直射阳光环境条件下保持良好外观。颜色深韵、光亮。

经济，可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。使用一块软布和玻璃清洁剂即可清洁干净PVD膜层。

膜技术是真空应用技术的一个重要分支，它已广泛地应用于光学、电子学、能原开发，*灯具反光杯开发，理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中，真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积艘以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。如果从真空镀膜的目的是为了改变物质表面的物理、化学性能的话，这一技术又是真空表面处理技术中的重要组成部分。、需求进行特有的工艺设计，然后再进行反复的塑性变形、热处理等，过程中需要地控制晶粒、晶向等关键指标，再经过焊接、机械加工、清洗干燥、真*装等工序。