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电镀铜开始于1801年的*盐酸性镀铜用于工业上面的生产,已经拥有了160多年的历史了。利用电镀铜技术,可以让其他一些工件的表面具备铜色具有的一些优点,而且还节省了更多的铜。简单来说就是电镀铜界的外界直流电的作用之下,电镀材料销售,在溶解溶液里面进行电解反应让导电体比如说工件表面上积一层铂金整个反应,比如说镀铜可以用CuSO4作为电解质的溶液,要镀的金属,接电源的负*,电源的正*接的就是纯铜,通电以后阴*就会发生相应的反应,金属铜以离子的状态会进入镀液里面。


阴*电流密度一-阴*电流密度

对阴*电流效率、沉积速度及镀层质量均有影响。测试结果表明,电镀材料公司,当采用pH较底的电解液

镀镍时,在低电流密度区,焦作电镀材料,阴*电流效率随电流密度的增加而增加;在高电流密度区,阴*

电流效率与电流密度无关,而当采用较高的pH电镀液镍时,阴*电流效率与电流密度的关

系不大。与其它镀种一样,镀镍所选取的阴*电流密度范围也应视电镀液的组分、温度

及搅拌条件而定,由于PCB拼板面积较大,使高电流区与低电流区的电流密度相差很大,

一般采用 2A/dm2为宜。


电镀溶液温度当其它条件(指电压不变,由于离子扩散速度加快,电流会*)不变时,升高溶液的温度,通常会加快阴*反应速度和离子扩散速度,降低阴**化作用,因而也会使镀层结晶变粗。但是不能认为升高溶液温度都是不利的,如果同其它工艺条件配合恰当,升高溶液温度也会取得良好效果。还有导电可以用于增加导电性能的铜镀层,在装饰性电镀铜中可以选择特定的增加剂,这样就能够让产品得到光亮的效果或者是度数凹凸黑体字。


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