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工艺编辑面临挑战切割线直径更细的切割线意味着更低的截口损失,也就是说同一个硅块可以生产更多的硅片。作为集成电路核心的电子元器件,95%以上是用半导体硅制成的,半导体是当代信息工业的支柱。然而,切割线更细更容易断裂。荷载每次切割的总面积,等于硅片面积X每次切割的硅块数量X每个硅块所切割成的硅片数量 。切割速度切割台通过切割线切割网的速度,这在很大程度上取决于切割线运动速度,马达功率和切割线拉力。易于维护性线锯在切割之间需要更换切割线和研磨浆,维护的速度越快,总体的生产力就越

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半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离

子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、*残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括

*金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、*、微生物、有机胶体纤维等,会导

致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。

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硅片厚度也是影响生产力的一个因素,因为它关系到每个硅块所生产出的硅片数量。超薄的硅片给线锯技术提出了额外的挑战,因为其生产过程要困难得多。

除了硅片的机械脆性以外,如果线锯工艺没有精密控制,细微的裂纹和弯曲都会对产品良率产生影响。超薄硅片线锯系统必须可以对工艺线性、切割线速度和压

力、以及切割冷却液进行精密控制。



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