苏州化工节能设备-白城钌铱涂层

对金属表面处理技术中遇到的有关电*电位，电*过程的速度控制步骤及电*的*化等基本概念，做了深入浅出的解释.*介绍了电**化产生的原因，*化的分类，标准电*电位，钌铱涂层，平衡电*电位和稳定电位之间的区别和联系，电*电位的测量及标度，*化曲线在电镀中的应用举例，以及在测量中经常遇到的一些问题，如正确选用参比*化，参比电*的制做，液体接界电位及其消除等.


研究了聚蓝修饰电*的制备及其多巴胺在聚蓝修饰电*上的循环伏安特性，建立了循环伏安法测定多巴胺的新方法.在pH 7.0*盐缓冲溶液中，峰电流与多巴胺浓度在8.0×10-7～5.0×10-4mo1/L范围内呈良好的线性关系，检出限为5.0×10-8mol/L.已用于药剂中多巴胺的测定.应用原子力显微镜和X射线粉末 法对 3d过渡金属离子Cr(Ⅲ ) ，Fe(Ⅲ ) ，Mn(Ⅱ ) ，Co(Ⅱ ) ，Ni(Ⅱ ) ，Cu(Ⅱ )和Zn(Ⅱ )掺杂TiO2 纳米晶粒 (简写为M3d TiO2 )作了表征 ，并用光电化学方法研究了M3d TiO2 纳米结构多孔膜电* .实验结果表明 ，M3d TiO2 纳米粒子的颗粒较均匀 ，粒径约为 1 5nm ，其晶型为锐钛矿和板钛矿的混晶 .在所研究的M3d TiO2 中 ，只有Zn2 TiO2 电*的光电流大于未掺杂的TiO2 纳米结构多孔膜电* .3d金属离子的掺杂引起各电*的光电流信号在一定波长范围内出现 p n转型现象


通过电化学合成前驱体和溶胶-凝胶法在Ti表面修饰一层纳米TiO2膜，SEM，XRD测试表明晶型为锐钛矿型，晶粒平均尺寸为25 nm.采用循环伏安法、循环方波伏安法和电解合成法研究了纳米TiO2膜电*在*介质中的氧化还原行为以及对马来酸(maleic acid)还原的电催化活性.结果表明，纳米TiO2膜电*在阴*扫描时有两对可逆氧化还原峰，可逆半波电位E*分别为-0.53 V和-0.92 V(vs.SCE，扫描速度0.05V@s-1)，对应于TiO2/TiO3和TiO2/Ti(OH)3两个氧化还原电对的可逆电*过程.其中TiO2/Ti2O3电对对马来酸具有异相电催化还原活性，纳米TiO2膜中的TiⅣv/TiⅢ氧化还原电对作为媒质间接电还原马来酸为丁二酸(butane diacid)，反应机理为电化学偶联随后化学催化反应(EC′)机理.


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