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在真空镀膜加工方面,通常对蒸发源应考虑蒸发源的材料和形状,一般对蒸发源材料的要求是:

(1)化学性能稳定,金属真空镀膜,在高温下不应与蒸发材料发生化学反应。在高温下某些蒸发源材料,与蒸发材料之间会产生反应及扩散而形成化合物和合金。





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有些具有需小心保护的内部电子元件(植入式或外部),由于这些电子元件体积微小,没有足够的重量进行沉降、喷涂或涂刷,一些微小的装置还会受到气隙、厚度不均等因素的不良影响,因此无法采用传统的防护涂层。



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