激光脉冲沉积装置厂家-激光脉冲沉积装置-沈阳鹏程真空技术

脉冲激光沉积系统的配置介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司*生产、销售脉冲激光沉积，激光脉冲沉积装置报价，我们为您分析该产品的以下信息。

1.靶: 数量6个，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制;

2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差lt;3%，加热时基板可旋转，工作环境的压力可达300mtorr;

3.基板加热电源，激光脉冲沉积装置哪家好，高到1200度;

4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度lt;5e-8 pa;

5.样品搬运室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度lt;5e-5 pa;

6.排气系统:分子泵和干式机械泵;

7.阀门: 采用超高真空挡板阀;

8.真空检测:真空计;

9.气路两套: 采用气体流量计控制;

10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED;

11.监控系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，靶的更换等;

12.各种电流导入及测温端子;

13.其它各种构造:各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等;

脉冲激光沉积选件介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——*生产、销售脉冲激光沉积，激光脉冲沉积装置厂家，我们公司坚持用户为上帝，想用户之所想，急用户之所急，以诚为本，讲求信誉，以产品求发展，以质量求生存，我们热诚地欢迎各位同仁合作共创*。

连续组成扩展(CCS )

常规沉积条件下的组合合成

组合合成是一种基于脉冲激光沉积的、组合材料合成的新型连续组成扩展(CCS) 方法。PLD-CCS 系统能以连续的方式改变材料，没有必要使用掩模。可以在每一次循环中，激光脉冲沉积装置，以小于一个单分子层的速率，快速连续沉积每一种组份，其结果是基本等同于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或结晶，对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是有用的。

PLD 主要选件

离子辅助沉积 (IBAD)系统介绍

离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的PLD 系统，该系统将PLD 在沉积复杂材料方面的优势与IBAD 能力结合在一起。

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