激光脉冲沉积装置-激光脉冲沉积装置价格-沈阳鹏程(推荐商家)

脉冲激光沉积系统特点及优势

可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供*的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续， 交货期短，*；

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PLD450型脉冲激光镀膜介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——*脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。

主要用途：　　

用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。　　

系统组成:　　

主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。　　

脉冲激光沉积发展前景

由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知，它是一种*发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化，将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用；并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平，加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年脉冲激光沉积行业经验，激光脉冲沉积装置，专注脉冲激光沉积研发定制与生产，激光脉冲沉积装置公司，*的脉冲激光沉积生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线电话！！！