振鑫焱*估价(图)-回收*拍卖光伏电池板-光伏电池板

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报废片：

超过缺点片的规定常出現的印刷图型出现异常的缘故表明

1、电级掉下来（叠片）：硅片与料浆没产生充足的铝合金层换句话说沒有产生好的触碰。

2、断开：有物品粘在钢网上，导致堵网。解决方案：擦洗钢网，擦洗堵网地区。

3、跑模：钢网有系统漏洞解决方案：较小且没有细栅线上线下用封网浆将小圆孔封死就能。很大时务必要拆换钢网。另留意跑模干万不可以漏在反面电级，那样会使RSH（并联电阻）过低。

4、粗点：钢网损伤，刮条不整平解决方案：换钢网，换刮条。

5、虚印：有时候会因为原料缘故造成如：据痕、薄厚不匀。其次跟刮条和钢网也是关联。解决方案：换钢网或换刮条。

振鑫焱光伏科技有限公司常年采购：*回收硅片，电池片，初级多晶硅，银浆布，单晶硅，多晶硅，太阳能电池，光伏组件，太阳能电池板，客户撤退，降级，库存，El，不良测试，二手，旧，工程，拆卸，路灯，拆解电站，拆卸，胶合板，层压板，无边界晶体硅，多晶硅，单晶硅，实验板，*偿还，返工，光伏模块回收等。

影响因素

1 ．频率

射频 PECVD 系统大都采用 50kHz~13.56 MHz 的工业频段射频电源。较高频率（ gt;4MHz ）沉积的氮化硅薄膜具有更好的钝化效果和稳定性。

2 ．射频功率

增加 RF 功率通常会改善 SiN 膜的质量。但是，功率密度不宜过大，超过 1W/cm2 时器件会造成严重的射频损伤。

3 ．衬底温度

PECVD 膜的沉积温度一般为 250 ～ 400 ℃ 。这样能保证氮化硅薄膜在HF 中有足够低的腐蚀速率，并有较低的本征压力，从而有良好的热稳定性和*裂能力。低于 200 ℃ 下沉积的氮化硅膜，回收返修光伏电池板，本征应力很大且为张应力，而温度高于 450 ℃ 时膜容易龟裂。

4 ．气体流量

影响氮化硅膜沉积速率的主要气体是 SiH4 。为了防止富硅膜，选择NH3/SiH4=2~20 （体积比）。气体总流量直接影响沉积的均匀性。为了防止反应区下游反应气体因耗尽而降低沉积速率，通常采用较大的气体总流量，以保证沉积的均匀性。

5 ．反应气体浓度

SiH4 的百分比浓度及 SiH4/NH3 流量比，对沉积速率、氮化硅膜的组分及*性质均有重大影响。

理想 Si3N4 的 Si/N ＝ 0.75 ，而 PECVD 沉积的氮化硅的化学计量比会随工艺不同而变化，但多为富硅膜，可写成 SiN 。因此，必须控制气体中的 SiH4 浓度，不宜过高，并采用较高的 SiN 比。除了 Si 和 N 外， PECVD 的氮化硅一般还包含一定比例的氢原子，即 SixNyHZ 或 SiNx :H 。

6 ．反应压力、和反应室尺寸 等都是影响氮化硅薄膜的性能工艺参数。