台湾气相沉积设备-拉奇纳米镀膜设备-气相沉积设备厂家

进口不导电（NCVM）镀膜设备应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜（NCVM）。大功率蒸发系统，可控硅控制，重复性、稳定性高，*镀透电*设计，配置石英晶振，可控制任何膜层厚度，拥有的工件架技术，转速平稳可调，产量大且良品率高。

NCVM是采用镀出金属及尽缘化合物等薄膜，利用相互不连续之特性， 得到外观有金属质感且不影响到无线通讯传输之效果。首先要实现不导电，满足无线通讯产品的正常使用

真空纳米镀膜机的工作原理及操作方法，台湾气相沉积设备，离子镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空蒸发镀膜机、真空多弧离子镀膜机、真空中频磁控溅射镀膜机、多功能中频磁控溅射多弧复合离子镀膜机、真空光学(电子束蒸发)镀膜机等系列真空镀膜设备，主要思路是分成蒸发和溅射两种。

离子溅射镀膜，小型气相沉积设备，多半是在反应气体存在下进行的，化合物沉积膜的稳定性和光学常数，依赖于气体的类型和阴*材料。常用的反应气体为氧气，常用的阴*材料有铁、镍、铜铅等，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属。反应溅射形成的氧化物是属于有吸收而折射率不是很高的镀膜材料。

气相沉积设备腔室维护完毕后，开始抽真空，抽真空的时间为36～48小时，期间在腔室真空达到一定程度时，进行真空测漏，气相沉积设备厂商，真空测漏没有问题并且腔室真空达到工艺条件后，就可以进行生产准备了。维护之前的*空（从真空状态回到大气状态）需要 2 个小时，之后再对所有需要吊装的阴*及泵舱吹水之后就可以进行舱室维护了。

气相沉积设备生产特点来看，腔室中所有设备部件的检查、维修要集中在舱室维护期间进*相沉积设备厂家，并且要保证这些装置工作的可靠性，否则，如果在正常生产期间出现问题，仅仅腔室*空和抽气就需要 40 多个小时，对生产的影响巨大。