负性光刻胶供应商-负性光刻胶-北京赛米莱德公司(查看)
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- 名称 北京赛米莱德贸易有限公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 况经理
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价格
面议
点此议价
- 采购量 不限制
- 发布日期 2021-05-19 10:09 至 长期有效
负性光刻胶供应商-负性光刻胶-北京赛米莱德公司(查看)产品详情
光刻胶市场
据统计资料显示,2017年中国光刻胶行业产量达到7.56万吨,较2016年增加0.29万吨,其中,中国本土光刻胶产量为4.41万吨,与7.99万吨的需求量差异较大,说明我国供给能力还需提升。
国内企业的光刻胶产品目前还主要用于PCB领域,代表企业有晶瑞股份、科华微电子。
在半导体应用领域,随着汽车电子、物联网等发展,负性光刻胶,会在一定程度上增加对G线、I线的需求,利好G线、I线等生产企业。预计G线正胶今后将占据50%以上市场份额,I线正胶将占据40%左右的市场份额,负性光刻胶公司,DUV等其他光刻胶约占10%市场份额,负性光刻胶供应商,给予北京科华、苏州瑞红等国内公司及美国futurrex的光刻胶较大市场机会。
NR9-1000py
问题回馈:
1.我们是LED制造商,麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。
A 据我所知,Futurrex
有几款胶很,NR7-1500P
NR7-3000P是专门为离子蚀刻
设计的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。
2.请问有没有可以替代goodpr1518,Micropure去胶液和goodpr显影液的产品?
A 美国光刻胶,Futurrex
正胶PR1-2000A
, 去胶液RR4,负性光刻胶哪里有,和显影液RD6可以解决以上问题。
3.你们是否有可以替代Shipley
S1805的用于DVD的应用产品?
A 我们建议使用Futurrex
PR1-500A , 它有几个优点:比较好的解析度,比较好的线宽控制,
反射比较少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~
4. 求助,耐高温的光阻是那一种?
A Futurrex, NR7 serious(负光阻)Orpr1 serious(正光阻),再经过HMCTS
silyiation process,可以达到耐高温200度,PSPI透明polyimide,可耐高温250度以上。
5.厚膜光阻在镀金应用上,用哪一种比较理想?
A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的湿膜更加适合,和理想。
6.请教LIFT-OFF制程哪一种光阻适合?
A 可以考虑使用Futurrex
,正型光阻PR1,负型光阻用NR1amp;NR7,它们都可以耐高温180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。
7.请问,那位知道,RIE
Mask,用什么光阻比较好?
A 正型光阻用PR1系列,负型光阻使用NR5,两种都可以耐高温180度。
8.一般厚膜制程中,哪一种光阻适合?
A NR9-8000P有很高的深宽比(超过4:1),一般厚膜以及,MEMS产品的高需求。
9.在DEEP
RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P吗?
A 建议不使用,因为使用NR5-8000更加理想和适合。
10.我们是OLED,我们有一种制程上需要一层SPACER,那种光阻适合?
A 有一种胶很适合,美国Futurrex
生产的NR1-3000PY
and和
NR1-6000PY,都适合在OLED制程中做*cers
光刻工艺重要性二
光刻胶的*波长由宽谱紫外向g线→i线→KrF→ArF→EUV(13.5nm)的方向移动。随着*波长的缩短,光刻胶所能达到的*限分辨率不断提高,光刻得到的线路图案精密度更佳,而对应的光刻胶的价格也更高。
光刻光路的设计,有利于进一步提升数值孔径,随着技术的发展,数值孔径由0.35发展到大于1。相关技术的发展也对光刻胶及其配套产品的性能要求变得愈发严格。
工艺系数从0.8变到0.4,其数值与光刻胶的产品质量有关。结合双掩膜和双刻蚀等技术,现有光刻技术使得我们能够用193nm的激光完成10nm工艺的光刻。
为了实现7nm、5nm制程,传统光刻技术遇到瓶颈,EUV(13.5nm)光刻技术呼之欲*积电、三星也在相关领域进行布局。EUV光刻光路基于反射设计,不同于上一代的折射,其所需光刻胶主要以无机光刻胶为主,如金属氧化物光刻胶。
负性光刻胶供应商-负性光刻胶-北京赛米莱德公司(查看)由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司为客户提供“光刻胶”等业务,公司拥有“赛米莱德”等品牌,专注于工业制品等行业。,在北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208的名声不错。欢迎来电垂询,联系人:况经理。