电镀测厚仪-一六仪器-无锡测厚仪

一六 荧光测厚仪 十年以上研发团队 集研发生产销售一体

元素分析范围:氯(CI)- 铀(U) 厚度分析范围:各种元素及有机物

一次可同时分析:23层镀层，24种元素 厚度检出限:0.005um

工业X射线镀层厚度分析仪以其快速、无损、现场测量等优点，已在冶金、建材、地质、环保、商检、考古、医学等领域得到迅速推广和应用。近几年来X射线荧光仪已在工业镀层及涂层厚度测量中应用越来越广泛。众所周知，产品和金属元件表面镀层或防腐层厚度是与产品质量与性能相关的重要指标。实验表明使用同位素X射线荧光分析方法，能够满足工业镀层和涂层厚度的分析要求，并且具有无损、在线、简便快速、可实现自动控制等特点。

一六仪器 *测厚仪 多道脉冲分析采集，*EFP算法 X射线荧光镀层测厚仪

应用于电子元器件，LED和照明，电镀测厚仪，家用电器，通讯，汽车电子领域.EFP算法结合*定位决了各种大小异形多层多元素的涂镀层厚度和成分分析的业界难题

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆积的1～104的原子层或分子层。在此方向上，薄膜具有微观结构。

理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之间的距离。由于薄膜仅在厚度方向是微观的，其他的两维方向具有宏观大小。所以，表示薄膜的形状，光谱分析仪，一定要用宏观方法，即采用长、宽、厚的方法。因此，无锡测厚仪，膜厚既是一个宏观概念，又是微观上的实体线度。

由于实际上存在的表面是不平整和连续的，而且薄膜内部还可能存在着、杂质、晶格缺陷和表面吸附分子等，光谱测厚仪，所以，要严格地定义和测量薄膜的厚度实际上是比较困难的。膜厚的定义应根据测量的方法和目的来决定。

经典模型认为物质的表面并不是一个抽象的几何概念，而是由刚性球的原子（分子）紧密排列而成，是实际存在的一个物理概念。

形状膜厚：dT是接近于直观形式的膜厚，通常以um为单位。dT只与表面原子（分子）有关，并且包含着薄膜内部结构的影响；

质量膜厚：dM反映了薄膜中包含物质的多少，通常以μg/cm2为单位，它消除了薄膜内部结构的影响（如缺陷、、变形等）；

物性膜厚：dP在实际使用上较有用，而且比较容易测量，它与薄膜内部结构和外部结构无直接关系，主要取决于薄膜的性质（如电阻率、透射率等）。

一六仪器 *测厚仪 多道脉冲分析采集，*EFP算法 X射线荧光镀层测厚仪

应用于电子元器件，LED和照明，家用电器，通讯，汽车电子领域.EFP算法结合*定位决了各种大小异形多层多元素的涂镀层厚度和成分分析的业界难题

定位方式：

1、移动平台：

A、手动（普通和带精密滑轨移动）：装配设计不同*移位从0.5mm-0.005mm不等，移动的灵动性差距也很大。

B、电动（自动）：装配设计不同*移位从0.2mm-0.002mm不等

但同样的手动或者自动，其定位*也相差很多。

2、高度定位：

A、手动变焦和无变焦

B、激光对焦和CCD识别对焦