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AF真空镀膜设备-镀膜设备-至成镀膜设备量身订制

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包装卷绕真空镀膜设备


HCPAK系列卷绕镀膜设备是用于铝屏障包装应用的卷对卷金属化解决方案。在利润率较低的行业中,的生产效率,再加上的产品性能,是应对未来挑战的。

通过将传统的铝涂层沉积到宽范围的柔性基板上增强光学、保护和阻隔性能。HCPAK系列覆盖了1100~3850mm的宽幅,以及所有常见的塑料薄膜和纸张基材,针对2500mm以上大宽幅基材以不同的速度实现输出,比传统系统提高25%以上的处理速度。

特点:高正常运行时间,因为一个强大和服务友好的机器概念由于强大的等离子预处理,产品一致性高,阻隔性能提高由于铝蒸发器源的优化配置,在层均匀性方面具有的产品质量简化操作和优化设计,便于操作的设备卷绕系统的设计概念使卷绕路径能够灵活地适应基板和应用的个别要求。由于稳健的机器设计,正常运行时间很长


镀膜理论


镀膜控制穿过光学干涉机制的反射光和透射光。当两个光束沿着同步路径传输及其相位匹配时,波峰值的空间位置也匹配并将结合创建较大的总振幅。当光束为反相位(180°位移)时,其叠加会导致在所有峰值的消减效应,导致结合的振幅降低。这些效应被分别称为建设性和*性的干涉。

光的波长和入射角通常是的,折射率和层厚度则可以有所不同以优化性能。上述的任何更改将会影响镀膜内光线的路径长度,并将在光透射时改变相位值。这种效应可简单地通过单层增透膜例子说明。当光传输穿过系统时,在镀膜任一侧的两个接口指数更改处将出现反射。为了尽量减少反射,我们希望它们在个接口重组时,这两个反射部分具有180°的相位移。这个相位差异直接对应于aλ/2位移的正弦波,它可通过将层的光学厚度设置为λ/4获得良好实现。



常用的光学镀膜有哪些?


二,光学薄膜

减反射膜是应用广、产量大的一种光学薄膜,因此,它至今仍是光学薄膜技术中重要的研究课题,研究的*是寻找新材料,设计新膜系,改进淀积工艺,使之用少的层数,简单、稳定的工艺,获得尽可能高的成品率,达到理想的效果。对激光薄膜来说,减反射膜是激光损伤的薄弱环节,如何提高它的*强度,也是人们关心的问题之一。

反射膜

它的功能是增加光学表面的反射率。反射膜一般可分为两大类,一类是金属反射膜,一类是全电介质反射膜。此外,还有把两者结合起来的金属电介质反射膜。

一般金属都具有较大的消光系数,当光束由空气入射到金属表面时,进入金属内部的光振幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少,而反射光能增加。消光系数越大,光振幅衰减越迅速,进入金属内部的光能越少,反射率越高。人们总是选择消光系数较大,光学性质较稳定的那些金属作为金属膜材料。在紫外区常用的金属薄膜材料是铝,在可见光区常用铝和银,在红外区常用金、银和铜,此外,铬和铂也常用作一些*薄膜的膜料。由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能,所以必须用电介质膜加以保护。常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等。金属反射膜的优点是制备工艺简单,工作的波长范围宽;缺点是光损耗大,反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高,可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层,组成金属电介质反射膜。需要指出的是,金属电介质反射膜增加了某一波长(或者某一波区)的反射率,却*了金属膜中性反射的特点。


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