激光脉冲沉积装置价格-沈阳鹏程(在线咨询)-激光脉冲沉积装置
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- 名称沈阳鹏程真空技术有限责任公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 董顺
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价格
面议
点此议价
- 采购量 不限制
- 发布日期 2021-01-11 10:24 至 长期有效
激光脉冲沉积装置价格-沈阳鹏程(在线咨询)-激光脉冲沉积装置产品详情
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脉冲激光沉积系统配置介绍
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脉冲激光沉积系统配置:
生长室,进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选,激光脉冲沉积装置厂家,激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压RHEED,工作气压可达100Pa可预留法兰,用于LEED,K-Cell,激光脉冲沉积装置价格, E-beam等其它可选项如臭氧发生器,离子源,掩膜系统等。
脉冲激光沉积简介
随着现代科学和技术的发展,激光脉冲沉积装置,薄膜科学已成为近年来迅速发展的学科领域之一,是凝聚态物理学和材料科学的一个重要研究领域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面,它不仅具有丰富的物理内涵,而且在微电子、光电子、超导材料等领域具有十分广泛的应用。长期以来,人们发明了多种制膜技术和方法:真空蒸发沉积、离子束溅射、磁控溅射沉积、分子束外延、金属有机化学气相沉积、溶胶- 凝胶法等。上述方法各有特点,并在一些领域得到应用。但由于其各有局限性,仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。随着激光技术和设备的发展,特别是高功率脉冲激光技术的发展,脉冲激光沉积(PLD)技术的特点逐渐被人们认识和接受
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脉冲激光沉积发展前景
由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知,激光脉冲沉积装置公司,它是一种*发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化,将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用;并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平,加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。
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