电镀怎么样-电镀-瑞松 *电镀加工厂(查看)

真空电镀可以镀出*亮金属镀膜层

通过蒸馏或溅射等方式在塑件外表堆积各种金属和非金属薄膜，真空电镀加工是指*对对塑胶、陶瓷、玻璃、树脂、五金等各类产品进行外表处置的工厂。

真空电镀主要包括：真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。指在真空条件下。通过这样的方式得到非常薄的外表镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高j产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。罕见的塑胶产品电镀工艺有两种：水电镀和真空离子镀。待镀的工件做阴*，镀层金属的阳离子在待镀工件外表被还原形成镀层。为排除其它阳离子的干扰，且使镀层均匀、牢固，需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液，以坚持镀层金属阳离子的浓度不变。

还可以镀出各种二元合金、三元合金乃至于四元合金；还可以制作复合镀层、纳米资料；可以在金属资料上电镀，电镀不只仅可以镀出*亮的金属镀层。也可以在非金属资料上电镀。

这些技术的工业化是和电镀添加剂技术、电镀新材料技术在电镀液配方技术中的应用分不开的.用电解的方法将金属堆积于导体（如金属）或非导体（如塑料、陶瓷、玻璃钢等）外表，从而提高其*性，增加其导电性，电镀，并使其具有防腐蚀和装饰功能。对于非导体制品的外表，电镀哪家好，需经过适当地处理（用石墨、导电漆、化学镀处理，或经气相涂层处理）使其形成导电层后，才干进行电镀。

浅谈镀镍电镀液去除铜杂质的方法

　　铜离子是光亮镀镍中较常见的杂质之一。镀液受Cu2 污染，会使镀件低电流密度区光亮度差，过多的Cu2 还会造成镀层脆性*及结合力不良的弊病。在光亮镀镍液中，ρ（Cu2 ）应小于0.01g/L。去除镀液中的Cu2 有以下几种方法。

　　1）电解法。即用低电流密度使镀液中的Cu2 沉积在处理阴*板上的方法。用于处理的阴*板有波纹板、锯齿板和平面板三种型式。波纹板在施加一定电流电解时，阴*板上Jκ范围较广，波峰处Jκ较大，波谷处Jκ较小，所以能使Cu2 和其他金属杂质同时沉积，达到去除多种杂质的目的。锯齿形阴*板受效应的影响，电解过程中Ni2 和Cu2 同时沉积，造成镀液中镍盐损失增加。采用平板阴*可以使用不同的Jκ，达到有选择地去除金属杂质的目的。据经验，Jκ为0.5A/dm2时有利于Cu2 在阴*析出。

　　不论采用哪种型式的阴*进行电解处理都应注意几个问题：a.长时间电解处理时，应定时清洗电解板，防止电解板上疏松镀层脱落重新污染镀液；b.采用阴*移动或空气搅拌可以提高处理效果；c.电解处理中使用的阳*板必须是的镍阳*板，电镀怎么样，否则将影响处理效果，造成不必要的浪费。

　　2）化学沉淀剂法。常见的有QT除铜剂，该沉淀剂主要成分是亚铁青化物，在镀液中与Cu2 生成亚铁青化铜沉淀，电镀生产商，然后过滤出沉淀，达到去除铜杂质的目的。此方法的缺点是需要进行精密过滤，比较费时。

　　3）螯合剂法。螯合剂一般为芳环或杂环结构的有机物，在镀液中与Cu2 形成螯合物，由于在电解中，螯合物和Ni2 共沉积，可以使镀液中ρ（Cu2 ）不至于上升过高。这种方法简单易行，是目前处理镀镍液中杂质较好和有效的方法。在应用时必须选用的螯合剂，特别是要确保不能对镀层产生不良的影响。

电镀加工方法镀层分类

电镀加工分为挂镀、滚镀、连续镀和刷镀等方式，主要与待镀件的尺寸和批量有关。

挂镀适用于一般尺寸的制品，如汽车的保险杠，自行车的车把等。滚镀适用于小件，如紧固件、垫圈、销子等。连续镀适用于成批生产的线材和带材。刷镀适用于局部镀或*。电镀液有酸性的、碱性的和加有铬合剂的酸性及中性溶液，无论采用何种镀覆方式，与待镀制品和镀液接触的镀槽、吊挂具等应具有一定程度的通用性。 电镀加工

镀层分为装饰保护性镀层和功能性镀层两类。装饰保护性镀层主要是在铁金属、非铁金属及塑料上的镀铬层，特别是钢的铜-镍-铬层，锌及钢上的镍铬层。为了节约镍，人们已能在钢上镀铜-镍／铁-高硫镍-镍/铁-低固分镍-铬层。与镀铬层相似的锡／镍镀层，可用于分析天平、化学泵、阀和流量测量仪表上。

功能性镀层这种镀层种类很多，如：

①提高与轴颈的相容性和嵌入性的滑动轴承罩镀层，铅-锡，铅-铜-锡，铅-铟等复合镀层；

②用于*的中、高速柴油机活塞环上的硬铬镀层，这种镀层也可用在塑料模具上，具有不粘模具和使用寿命长的特点；

③在大型人字齿轮的滑动面上镀铜，可防止滑动面早期拉毛；

④用于防止钢铁基体遭受大气腐蚀的镀锌

⑤防止渗氮的铜锡镀层;

⑥用于收音机、电视机制造中钎焊并防止钢与铝间的原电池腐蚀的锡-锌镀层。适用于*和制造的工程镀层，有铬、银、铜等，它们的厚度都比较大，硬铬层可以厚达300微米。