江苏凯美(图)-*哪家好-烟台*

新一代超高压绝缘介质材料。作为良好的气体绝缘体，烟台*，被广泛用于电子、电气设备的气体绝缘。电子级高纯*是一种理想的电子蚀刻剂，广泛应用于微电子技术领域，用作电脑芯片、液晶屏等大型集成电路制造中的等离子刻蚀及清洗剂。在光纤制备中用作生产掺氟玻璃的氟源，在制造低损耗单模光纤中用作隔离层的掺杂剂。还可用作氮准分子激光器的掺加气体。在气象、环境检测及其他部门用作示踪剂、标准气或配制标准混合气。在高压开关中用作灭弧和大容量变压器绝缘材料。也可用于粒子加su器及避雷器中。利用其化学稳定性好和对设备不腐蚀等特点，在冷冻工业上可用作冷冻剂（操作温度－45~0℃之间）。由于对α粒子有高度的停止能力，还用于放i射化学。此外还作为一种反吸附剂从矿井煤尘中置换氧。

*在常温常压下为气态，其临界温度为45.6℃，三相点温度为-50.8℃，常压下升华点温度为-63.8℃。*分子结构呈八面体排布，键合距离小、键合能高，因此其稳定性很高，在温度不超过180℃时，它与电气结构材料的相容性和氮气相似。

*制备：

使SO2在过量的F2中燃烧可生成SF6。反应温度约650℃，产物在冷阱中凝聚，*公司，其中除SF6外主要杂质是SO2F2。纯化时将其通过装有水和热的10%KOH溶液的洗涤瓶，后用P4O10干燥。

*的使用可以增加设备运行的安全性、缩小设备体积、延长设备寿命。近几年，*大力发展基础电力行业，给*厂家带来了很大的市场机遇。

高纯*(纯度在99.99%以上)，国内需求非常旺盛，*制备，而且附加值较高。

高纯*主要用于半导体工业中作清洗气体。

*的成本只有NF3的几分之一，近年来，各公司以廉价的SF6取代以往CVD工艺中作为清洗气体的NF3的新技术正被广泛研究。

该技术在大幅降低液晶产品加工中占相当比例的CVD气体成本的同时，还显示出了*i佳的环保前景，近年来用量有明显的提高。

据权i威机构预测，2010年我国将成为仅次于美国的*大集成电路市场，总需求量约为500亿美元。目前国内使用高纯*作为蚀刻气的生产线约有50条左右预计。2016年将达到700吨左右，

国内使用*作为蚀刻气的生产线有近50条，在未来的五年预计将有20条至30条新线建成。每年约消耗高纯*为600吨左右。而国内高纯*产品远远不能满足市场需求，半导体厂家所用高纯产品大部分依赖进口，这给高纯六氟化企业提供更多的发展机遇。